Gebraucht LAM RESEARCH 9400 #9152576 zu verkaufen

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Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
9400
ID: 9152576
Wafergröße: 4"
Etcher, 4" Turbo pump: STP A2203C2 Gate Valve: VAT65 VAT Controller: PM7 Chamber manometer: 0.1Torr, 629A-13799 Turbo manometer: 10 Torr, 925A117DE Roughing valve manometer: 10 Torr, 925A117DE He manometer: 0-100 Torr He UPC: 50sccm Gas: He 50sccm FC7700C Gas: Ar 50sccm FC7700C Gas: Cl2 50sccm FC7800C Gas: Bcl3 50sccm FC7800C Gas: O2 50sccm FC7700C Gas: CF4 50sccm FC7700C Gas: N2 2SLM FC7700C Software: Envision.
LAM RESEARCH 9400 Ätzer/Aser ist eine komplette schlüsselfertige Lösung für trockene Prozessanlagen zum Ätzen, Aschen und Reinigen von integrierten Schaltkreisen (IC). 9400 nutzt hohe Geschwindigkeit, chemische reaktionsgetriebene Verarbeitung für verbesserten Durchsatz, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. LAM RESEARCH 9400 verfügt über ein modulares Plattformdesign mit hohen Temperaturfähigkeiten, das eine konstante Leistung für eine Vielzahl von Ätz- und Ascheanwendungen bietet. 9400 ist für Anwendungen mit hohem Durchsatz konzipiert und zählt zu den am weitesten verbreiteten Ätzern der Branche. Die moderne modulare Architektur von LAM RESEARCH 9400 ermöglicht maximale Prozessflexibilität und kundenspezifische Konfigurationen für spezifische Anwendungen. Standardkonfiguration beinhaltet eine Verarbeitungskammer, Ladeschloss, Prozessgasmanagement, ein Prozeßfüll-/Entleerungssystem und einen Lastmanipulator. Darüber hinaus verfügt 9400 über die neuesten Prozessautomatisierungs-, Wartungs- und Steuerungssysteme, um genaue, zuverlässige und wiederholbare Operationen zu gewährleisten. LAM RESEARCH 9400 bietet Ultra-High-Speed-Ätzen und Aschen von fortschrittlichen, ultradünnen Membran- und II-VI (MIV) -dielektrischen Materialien sowie genaues Ätzen von Mehrschichtdielektrikum, Metall und über Schichten. Es verfügt über eine große Ätzfläche, die einen hohen Durchsatz, schnelle Drehung zwischen Aufträgen und schnelle Bearbeitungszeiten bietet. 9400 bietet auch mehrere Ätzprozesse einschließlich CF4, CF4/O2, CHF3/CF4, CHF3/O2, N2O und andere, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für fortschrittliche Industrieanwendungen. LAM RESEARCH 9400 ist standardmäßig mit drei separaten Reaktionskammern, einer Prozess- und Extraktkammer sowie einer Naßätzkammer und Bestrahlungskammer ausgestattet. Zusätzlich steht für die Hochtemperaturverarbeitung eine Hochleistungsquelle aus Oxy/Acetylen zur Verfügung. 9400 ist für höchste Präzision beim Ätzen und Aschen mit verbesserter Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt. Es bietet ein hohes Maß an Prozesssteuerung, einschließlich der Fähigkeit, Ätzzeit durch Waferdurchmesser einzustellen und Gasströme auf Substratebene einzustellen. Es ist auch in der Lage, gemusterte und Massenätzungen von Photoresist, Metall und dielektrischen Schichten durchzuführen. LAM RESEARCH 9400 kann Substrate bis zu einer Größe von 300 mm verarbeiten und ist eines der fortschrittlichsten heute erhältlichen Ätzer. Seine hohe Geschwindigkeit, präzise Leistung und modulare Architektur machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Waferbearbeitungsanwendungen, einschließlich MEMS, LED, LED-Verpackung und Halbleiterbauelementproduktion.
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