Gebraucht LAM RESEARCH 9400 #9164962 zu verkaufen

LAM RESEARCH 9400 ist ein fortschrittlicher Hochvakuum-Ätzer/Ascher, der zum Präzisionsätzen und Aschen von kritischen Komponenten, wie sie in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet werden, verwendet wird. 9400 nutzt präzise, präzise Strömungen und Drücke, kombiniert mit enger Temperaturregelung, um eine präzise Verarbeitung mit geringer Partikelverschmutzung zu bewirken. Es arbeitet sowohl auf GaAs als auch auf Si-Substraten durch den Einsatz mehrerer Elektrodenkonfigurationen und eignet sich auch zum Trockenätzen auf jedem Substrattyp. LAM RESEARCH 9400 umfasst eine Vollmetall-Ladekammer für den Waferträger und eine Prozesskammer zum Ätzen und Aschen, die ein schnelles Be- und Entladen von Substraten ermöglicht. Die Hauptkammer ist durch ein felddurchlässiges Legierungsfenster von der Lastsperrkammer getrennt, wodurch ein letzter Schutz vor Kontamination gegeben ist. Der Prozessaspekt des Systems wird durch zwei innerhalb der Kammer angebrachte Elektrodensätze gehandhabt. Diese kommen entweder in einem geraden Plasmastrahl oder in einer kanalisierten HF-modifizierten Plasmastrahl-Konfiguration und werden verwendet, um die Abscheidungsgeschwindigkeit zu steuern, eine genaue Ätzung zu ermöglichen und Drift während des Prozesses zu eliminieren. 9400 ist in der Lage, die höchste Verarbeitungspräzision zu erzeugen, mit Ätzraten von 100-10.000 Angström pro Sekunde und Seitenverhältnissen von bis zu 40: 1. Es unterstützt auch die höchste Stufe der Nachbearbeitungssteuerung, mit vollständiger Automatisierung der Rezepte und Präzisionsprozessüberwachung sowie Steuerung und Datenerfassung. LAM RESEARCH 9400 verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, einschließlich automatischer Abschaltung und Alarmmeldung von Fehlern, sowie eine manuelle und eine optionale automatische Lastsperre für Substratwechsel. Insgesamt vereint 9400 die neueste Technologie und höchste Präzision, um einen leistungsstarken Ätzer/Ascher für Halbleiterfertigungsleitungen bereitzustellen. Seine überlegene Leistung sorgt dafür, dass feinste Substrate mit höchster Genauigkeit und Zuverlässigkeit verarbeitet werden können.