Gebraucht LAM RESEARCH A 9608 PTX #9217816 zu verkaufen

LAM RESEARCH A 9608 PTX ist ein anisotroper Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um eine exakte Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) -Ätzung bereitzustellen. Es ist ein sehr gefragtes Werkzeug für fortschrittliche Lithographie- und Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Prozesse geworden. Es wird zum qualitativ hochwertigen Ätzen von Wafern mit außergewöhnlicher Präzision, Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit für Merkmalsgrößen bis hin zu Nanometern verwendet. LAM RESEARCH A9608 PTX ist der Industriestandard für den hauseigenen Produktionswerkzeugaustausch (PTX) -Ätzprozess. Es bietet die gleiche Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit wie der Produktionswerkzeugaustausch (PTX) und bietet überlegene Ätzeigenschaften mit den strengsten Prozessbedingungen. Die Ausrüstung bietet ein außergewöhnlich breites Prozessfenster zum Ätzen einer Vielzahl von Substratmaterialien, darunter Silizium, Metalllegierungen, Nitride und Oxide. Eine 9608 PTX unterstützt das fortschrittliche Nasschemie-Ätzen von Metallen ohne Vakuumsystem. Es bietet Präzisions-Trockenplasmaätzfähigkeiten, einschließlich isotropes, gerichtetes und nichtdirektionales Ätzen. A9608 PTX verfügt über einen Hochleistungs-HF-Generator, einen variablen Frequenzgenerator, ein programmierbares Teilsystem zur mehrachsigen Gaszufuhr und ein fortschrittliches Teilsystem zur thermischen Gleichförmigkeit. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung und Abstimmung der Prozessparameter, wie Ätzselektivität und Schrittabdeckung, um eine überlegene Funktionssteuerung zu erreichen. Es verfügt auch über eine hochauflösende Inspektionseinheit mit mehreren Bildaufnahmeoptiken und Videooptionen. LAM RESEARCH A 9608 PTX ist sehr zuverlässig, effizient und mit einer Vielzahl von Konfigurationen ausgestattet, um Kunden unabhängig von ihren Prozessanforderungen zu erfüllen. Das integrierte Softwarepaket zur Prozesssteuerung ermöglicht die Überwachung aller Prozessparameter beim Echtzeit-Ätzen und verfügt über einen wartungsarmen Betrieb. Die Maschine kann auch die Chargenverarbeitung für bis zu acht Substrate unterstützen. LAM RESEARCH A9608 PTX ist einfach zu installieren und vielseitig einsetzbar und unterstützt eine Vielzahl von Ätzprozessen, darunter anisotropes Trockenätzen, Nasschemie und Difusionsoxidation. Es ist äußerst zuverlässig und in der Lage, bis zu acht Messungen chargenweise zu ätzen. Die Plasmaquelle verfügt über ein automatisches Endpunktdetektionswerkzeug, um sicherzustellen, dass das Substrat nicht übergeätzt wird. Der einstellbare Gasstrom gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Ätzraten unabhängig vom Substrattyp, was zu weniger Nacharbeiten, höheren Erträgen und reduzierter Zykluszeit führt. Es ist ein leistungsfähiges und hocheffizientes Ätzwerkzeug für die Nanotechnologie-Industrie, das in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann.