Gebraucht LAM RESEARCH A6 9600 PTX #201020 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 201020
Etcher
Process: metal
SMIF type: API
Chamber type: PTX
Chambers: (2) PM, (2) Strip
Automation online component: SECS I/II, SECSGEM
Chamber config
Process module 1:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
Process module 2:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner, chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 3:
Esc: 718-094523-281
Liner, chamber, vat 65, Trnsn manf: 839-495013-002
Liner, chamber, trnsn manf, adptr: 715-495014-001
Liner, chamber, trnsn manf: 714-495015-001
Liner ,chamber, al, alli, bsr, 9600XX: 715-330825-007
Top quartz: 716-330891-002
Insul, esc, 9600XX: 716-330915-001
Pl, sh hd, cer, 21 hole, 9600PTX: 716-330892-007
Ring, gnd, chamber, bsr, ac cpld: 715-330889-002
Edge ring: 716-330045-281
Uniformity ring: 716-331051-002
Process module 4:
Focus ring: 716-460216-002
Quartz plate: 716-000941-001
EPD
Channel: end point filter box for PM 1 and PM 2
Channel (nm): 853-540066-011 703/261nm, 853-540066-011 703/261nm
Gas and B/H module (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Gas line qty (analog): 3, 8, 8, 3
Gas box model (analog): all universal
Gas 1: O2 5000, BCl3 200, BCl3 200, O2 5000
Gas 2: N2 1000, O2 1000, O2 1000, N2 1000
Gas 3: H2O 1000, Cl2 400, Cl2 400, H2O 1000
Gas 4: n/a, N2 200, N2 200, n/a
Gas 5: n/a, CF4 100, CF4 100, n/a
Gas 6: n/a, Ar 200, Ar 200, n/a
Gas 7: n/a, N2 20, N2 20, n/a
Gas 8: n/a, CHF3 50, CHF3 50, n/a
Helium pressure control unit: n/a, UPC-1300, UPC-1300, n/a
VAC (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Turbo pump: n/a, ATH-1600, ATH-1600, n/a
Turbo pump controller: n/a, ACT1300M/1600M, ACT1300M/1600M, n/a
Dry pump (TM and VCE): all single pump
Chamber manometer: MKS 10Torr, MKS 0.1Torr, MKS 0.1Torr, MKS 10Torr
Turbo manometer: n/a, MKS 10Torr 625A, MKS 10Torr 625A, n/a
Foreline manometer: all MKS 10Torr 625A
Pressure control valve: VAT64, Pendulum VAT65, Pendulum VAT65, VAT64
VAT controller: all software 65PM.3E.20
Temperature control (PM 1, 2, 3, 4 respectively)
Temperature control system: all 16 channel
Chiller type: 1 CH TCU, n/a, n/a, 1 CH TCU
RF generator: UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO, n/a, n/a, UPPER:RFDS1250/LOW:RFDS1250-HALO
Match: (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002), Stripper SmatchMatch, Stripper SmatchMatch, (L-853-330951-021)/(U-853-032294-002)
TR system
Platform: A6
Light tower: standard 4 light
Robot type: Brooks Mag-7
Arm type: dual arm
Wafer handling interface: Kalrze end effector
TM cover lift arm with PRK function
VCE inspection: lip seal
Computer system:
PC
Software version 2.2
Remote UI
Standard power
1996 vintage.
LAM RESEARCH A6 9600 PTX ist eine Ätz-/Aschereinrichtung, die zum Ätzen und Aschen von Prozessen bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente wie Halbleiter-ICs und Transistoren verwendet wird. Das System wurde entwickelt, um hochauflösende Ergebnisse mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und minimaler Beschädigung der Geräteschichten während des Ätz- und Ascheprozesses zu erzielen. Das Gerät besteht aus einer Reihe von Komponenten, die zusammenarbeiten, um dem Benutzer einen effizienten Ätz-/Ascheprozess zu ermöglichen. Die Hauptkomponenten der Maschine sind die Plasmaquellenanordnung, die externe Prozesskammer, die Vakuumpumpe und ihre zugehörige Steuerelektronik. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um eine chemisch reaktive Umgebung zu schaffen, so dass der Anwender die Reaktion und die Bedingungen kontrollieren kann, die für erfolgreiche Ätz- und Ascheprozesse erforderlich sind. Die Plasmaquellenanordnung ist so ausgelegt, dass sie einen hochdichten Plasmastrahl erzeugt, der mit den in der Prozesskammer enthaltenen Materialien reagiert. Die Prozesskammer ist zur Aufnahme der Probenmaterialien ausgebildet und mit einem Reaktivgasgemisch gefüllt. Die Vakuumpumpe dient zur Evakuierung der Prozesskammer sowie zur Abgabe etwaiger Nebenprodukte, die durch den Ätz- und Ascheprozess entstehen. Gesteuert wird das Werkzeug von der Steuerelektronik, die einen Frequenzsynthesizer, einen Amplitudenmodulator und eine Ereignissteuerschnittstelle umfasst. Der Frequenzsynthesizer ist dafür verantwortlich, dem Anwender die Möglichkeit zu geben, die Plasmaparameter auf optimalen Durchsatz und Gleichmäßigkeit während des Prozesses genau einzustellen. Der Amplitudenmodulator dient zur Einstellung der HF-Eingangsleistung, was zu der gewünschten Plasmastrahldichte und dem gewünschten Profil führt. Die Schnittstelle zur Ereignissteuerung ermöglicht es Benutzern, mehrstufige Prozesse wie Ätzen und Aschen einzurichten. A6 9600 PTX ist in der Lage, Produktionsgrößen von Wafern kleiner als 3 „bis 12“ zu handhaben. Die Anlage ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, Polymere und Dielektrika zu ätzen. Das Modell ist auch zu hochanisotropen Ätzprozessen in der Lage. Dank seiner Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit eignet es sich gut für die Herstellung von integrierten Schaltungen und Transistoren.
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