Gebraucht LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182310 zu verkaufen
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ID: 9182310
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open / Close (Manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Load lock:
Manual door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor included
Cassette type: 25 Slot cassette
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Aux position 1: Aligner
Chamber position 2:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
Chamber position 3:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1 ist eine hochmoderne Ätz-/Aschermaschine, die die strengsten Anforderungen an die Halbleiterherstellung erfüllt. Dieses System nutzt fortschrittliche Technologie, um höchste Präzision, Geschwindigkeit und Flexibilität in den Ätz- und Ascheprozessen zu gewährleisten und gleichzeitig einen überlegenen Durchsatz zu erhalten. Der Kern von LAM RESEARCH Alliance 4.1 ist seine fortschrittliche Hochleistungsabscheidungseinheit, die hohe Schichtabscheidungsraten ermöglicht und gleichzeitig ein unübertroffenes gleichmäßiges Ätzen ermöglicht. Diese Maschine nutzt eine mehrstufige Werkzeugarchitektur, um überlegene Ätzergebnisse zu erzielen. Es verwendet auch eine Kombination von Heiß- und Kaltgas-Tuning-Systemen, um optimale Ätzraten bei niedrigen und hohen Temperaturen zu halten. Die Anlage verfügt außerdem über einen einzigartigen Gasdurchflussmonitor zur Erkennung von Gasleckagen oder Unregelmäßigkeiten. Die LAM RESEARCH Alliance 4.1 sorgt mit dem Advanced Process Development Toolset (PDT) für eine außergewöhnliche Prozesssteuerung. Dieses Toolset bietet Benutzern die Möglichkeit, ihre Prozesse auf spezifische Anforderungen und Parameter abzustimmen. Es dient zur Auswertung und Abstimmung von Kammerparametern wie Druck, Durchfluss, Temperatur, Gasgemischen usw., um perfekte, gleichmäßige Ätzprozesse zu erzielen. Dieses Tool bietet auch ein Echtzeit-Feedback-Modell, das bei Problemen mit Prozessen schnelle Fehlersuche ermöglicht. Die LAM RESEARCH Alliance 4.1 bietet zudem herausragende Sicherheitsmerkmale, die auf dem Markt unerreicht sind. Eine fortschrittliche Wafer-Sicherheitsausrüstung sorgt dafür, dass die Wafer während des gesamten Ätzprozesses keiner schädlichen Energie ausgesetzt sind. Zusätzlich sind mehrere nachgeschaltete Filter zum Schutz vor der Möglichkeit einer nachgeschalteten Kontamination enthalten. Schließlich sorgt eine robuste und zuverlässige Steuerung dafür, dass der Prozess aufgrund eines unvorhergesehenen Aggregatausfalls nicht unterbrochen wird. Das Gesamtdesign und die Funktionalität der LAM RESEARCH Alliance 4.1 machen sie zu einem der wettbewerbsfähigsten Ätz-/Aschersysteme auf dem Markt. Seine Präzision, Geschwindigkeit und Flexibilität machen es in der Lage, jede Ätz- und Ascheaufgabe zu bewältigen. So ist LAM RESEARCH Alliance 4.1 die beste Wahl für jeden Bedarf an Halbleiterherstellung.
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