Gebraucht LAM RESEARCH Alliance A6 9600 #9276388 zu verkaufen

LAM RESEARCH Alliance A6 9600 ist eine hochpräzise Ätz- und Ascheausrüstung für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Das System bietet präzise, wiederholbare und zuverlässige Ätz- und Spülvorgänge für eine Vielzahl von Substraten, darunter Siliziumscheiben, Metalle und Dielektrika. Es ist für den Einsatz in dielektrischen Ätzanwendungen konzipiert, die hohe Ätzraten und präzise Genauigkeit erfordern. Das Gerät ist mit fortschrittlichen technologischen Funktionen und intuitiven benutzerfreundlichen Steuerungsoptionen ausgestattet, um überlegene Produktleistung und Flexibilität zu bieten. Alliance A6 9600 verfügt über eine Inline-Tetrafluormethan (CF4) -Ätzkammer mit präziser Massendurchflussregelung, die hochwiederholbare Ätzprofile mit bis zu 250 mm/s Ätzrate und einer hochauflösenden 2,5 mm x 2,5 mm Patchgröße bietet. Eine optimierte digitale Ladungsneutralisationsmaschine sorgt für eine hervorragende Oxidationskonformität, reduziert die Oxidationsdrift und hält innerhalb ± 2V-Bereichs. Das Ätzwerkzeug verfügt außerdem über eine 8-Punkt-ringförmige Gaußelektronenstrahlquelle mit automatisierter Profilsteuerung und einen hochauflösenden Mustergenerator, der bis zu 0,02 μ m Linienbreiten erzeugen kann, wodurch es für die Produktion von Kleingeräten in großen Stückzahlen geeignet ist. Die Anlage umfasst ein integriertes Aschemodell mit einer 6 "-Dual-Zone-Vakuum-Aschekammer mit bis zu 2800 ° C Temperaturregelung und einer 8-Gas-Mix-Versorgungseinrichtung für schnellen Waferdurchsatz und Substratverträglichkeit. Darüber hinaus bietet das System eine integrierte Wasserstoffsteuereinheit (HCS) zur Verbesserung der Endpunktgenauigkeit, zur Optimierung der Photolackselektivität und zur Beseitigung von Alkaliverunreinigungen. LAM RESEARCH Alliance A6 9600 bietet die gesamte Palette an Funktionen und Funktionen, die für die Herstellung von High-End-Halbleiterbauelementen erforderlich sind. Die Maschine ist für Prozesskompatibilität, Produktivität, Gleichmäßigkeitskontrolle und Durchsatz optimiert und ermöglicht schnelle, präzise und wiederholbare Ätzergebnisse von Wafer zu Wafer und Lot zu Lot.