Gebraucht LAM RESEARCH Autoetch 490 #293697198 zu verkaufen
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ID: 293697198
Plasma etcher, 6"
Type: Single-wafer processing
Configurable for 3"-6"
TFT Monitors upgraded
Wafer detection
Fully automated microprocessor control
Cassette-to-cassette wafer processing
Vacuum load locked
Programmable variable electrode spacing
Endpoint detection
Stand-alone or bulk-head mount
ENI RF Generator
No chiller
No pump.
LAM RESEARCH Autoetch 490 ist ein Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um mikroelektronische Materialien, bis zu 12-Zoll-Wafer, schnell und präzise zu ätzen. Es ist ideal für eine Vielzahl von Ätzvorgängen, die zur Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden, einschließlich: Hochaspektätzen, Hartmaskenätzen, Funktionsgrößen bis zu 0,25 Mikrometer, Flachätzen und Tiefätzen. Autoetch 490 verfügt über eine Hochvakuum-Ätzkammer, eine gepufferte Gasförderausrüstung und ein präzises Robotersubstrat-Positioniersystem. Das Gerät bietet Präzisionsätzsteuerung mit Millisekunden-Reaktion, um einen hohen Durchsatz für kleine Funktionen und ultraseichte Strukturen zu ermöglichen. LAM RESEARCH Autoetch 490 setzt eine hochpräzise Roboterpositioniermaschine ein, um die Ätzrate über große Wafer genau abzustimmen. Sein Vakuum-Werkzeug ist in der Lage, hohe Bearbeitungsdrücke im Bereich der -Torr zu erreichen. Autoetch 490 verfügt über Netzanschlüsse, um einen hochpräzisen Betrieb mit einer Schussgröße von 300 nm zu ermöglichen. Es ist mit einer Ionenbeschussanlage ausgestattet, um die Ätzrate durch Vernetzung von Polymeren und Gewährleistung der Gleichmäßigkeit der Ätztiefe über die Substratoberfläche zu maximieren. Es verfügt auch über ein Gasoptimierungsmodell, um Ätzanweisungen wie hohe Seitenverhältnisse zu ermöglichen, ohne die Substratoberfläche zu beschädigen. Das Gerät ist auch sehr empfindlich auf Ätzratenänderungen und ist mit In-situ-Partikel-Detektionstechnologie ausgestattet, um In-situ-Ionen, Gase und Partikel zu überwachen. LAM RESEARCH Autoetch 490 bietet eine Vielzahl von Prozessmodulen, die zur verbesserten Steuerung in sein System integriert werden können, wie eine Temperaturkammer zur Ätzprofilabstimmung und eine Argumentationskammer zur schnellen Abstimmung von Ätzraten. Es ist auch mit einer patentierten Ladungsneutralisierungseinheit ausgestattet, um Ätzparameter effektiv zu steuern und die Leistung bei Ätzanwendungen zu verbessern, die hohe Aspektverhältnisse erfordern. Autoetch 490 ist ein ideales Werkzeug für die mikroelektronische und Halbleiterverarbeitung, einschließlich flaches Ätzen und Tiefätzen von Metall- und Metalloxidschichten. Die Maschine erfüllt sowohl industrielle als auch Forschungsanforderungen und liefert präzise und wiederholbare Ätzergebnisse mit kurzer Zykluszeit. Es ist eine zuverlässige, robuste und kostengünstige Ätzlösung zur Minimierung der Gesamtkosten.
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