Gebraucht LAM RESEARCH Autoetch 590 #293807554 zu verkaufen

LAM RESEARCH Autoetch 590 ist ein hochentwickelter Ätzer/Ascher für den modernen Arbeitsablauf der Halbleiterherstellung. Diese Ausrüstung verwendet fortschrittliche Technologie, um Präzisionsätz- und Ascheprozesse in einer bequemen Maschine anzubieten. Durch die Bereitstellung der höchsten verfügbaren Ätz- und Aschegeschwindigkeit und -genauigkeit erhöht Autoetch 590 den Produktionsdurchsatz und die Erträge für die heutigen Anforderungen an die Herstellung von hochvolumigen Halbleitern. LAM RESEARCH Autoetch 590 wurde entwickelt, um umweltfreundlich zu arbeiten und FOUP-Container zu verwenden, um Wafer ohne direkten menschlichen Kontakt sicher zu transportieren. Dadurch entfällt der direkte Umgang mit gefährlichen Chemikalien, was sowohl das Personal als auch das lebenswichtige Produkt vor Beschädigungen schützt. Der Anwender kann auch ein flexibles Programm angeben, um die Anforderungen an bestimmte geätzte Wafer gezielt an die optimale Leistung anzupassen. Das System ist einfach konfigurierbar, um Prozessfunktionen für die Anforderungen eines Kunden hinzuzufügen. Autoetch 590 verwendet einen hochauflösenden, 1 µm-stufigen kollimierten Laser mit optionalen Umwandlungslinsen, um die Verarbeitung mehrerer Rezepte zu ermöglichen. Durch die Steuerung der Laserleistung und Pulszeit können Benutzer große und kleine Merkmale in Wafern präzise ätzen und so schwierige Muster mit einer erstaunlichen Geschwindigkeit erzeugen. Der Laser bietet auch den Vorteil der übersprechfreien Ätzung, um maskenabhängige Musterfehler zu minimieren. Darüber hinaus verfügt LAM RESEARCH Autoetch 590 über eine breite Palette fortschrittlicher und anpassbarer Prozessparameter wie Substratfehlausrichtungsregelung, Temperaturregelung, Leistungseinstellungen, Schlitzbreiten und aerosolisierte chemische Konzentrationseinstellungen. Dadurch kann der Benutzer genau die Parameter festlegen, die für die schwierigsten Aufträge benötigt werden. Das Gerät verfügt außerdem über erweiterte Messtechnik und Inspektionsmöglichkeiten, um die Ätzgenauigkeit in jedem Schritt des Prozesses sicherzustellen. Autoetch 590 verwendet chemische Förderdüsen der K-Serie, um die Ätzraten präzise und schnell zu steuern. Diese Maschine verfügt über eine überlegene Kontrolle und Zuverlässigkeit, um höchste Genauigkeit und Konsistenz der Ätzrate für jedes bearbeitete Substrat zu gewährleisten. Das Werkzeug verfügt über eine Kalibrierzelle zur Überwachung von Ätzprozessparametern, um eine Präzisionskontrolle und extrem gleichmäßige Ätzungen zu gewährleisten. Das Asset ist an eine Verarbeitungsstation angeschlossen, die eine sichere Umgebung zur Steuerung aller Aspekte des Ätzens und des Auswertens bereitstellen kann. Dies ermöglicht eine automatische Wafer-Abbildung, um eine optimale Ausrichtung von Wafern in Bezug auf Ätz- und Aschevorgänge zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet das Modell eine hohe Integration, um die einfache Kommunikation mit einer Vielzahl von externen Verarbeitungsplattformen zu erleichtern. LAM RESEARCH Autoetch 590 bietet einfach zu bedienende Design-Tools, Rüstzeiten und Programmiersprachen, um die Geräte für die komplexesten Produktionsanforderungen zu konfigurieren. Abschließend ist Autoetch 590 das ideale Werkzeug für das moderne Halbleiterherstellungsunternehmen. Die fortschrittliche Technologie und die integrierten Funktionen ermöglichen hohe Ätz- und Aschegenauigkeit, Geschwindigkeit und Wiederholbarkeit. Das System bietet kundenspezifische Prozesse für extrem steife Produktionsanforderungen bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung eines sicheren und umweltfreundlichen Workflows.