Gebraucht LAM RESEARCH Dual frequency oxide chamber for Exelan A6 #9232416 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9232416
Wafergröße: 8"
8"
Modified process chamber
ESC
Silicon showered
Scroll pump and controller
VME Box with boards
Right angle valve
Scroll pump controller
Computer / Interface board
Upper electrode
Process kit
Frame
Missing parts:
Box
Chamber aluminum pieces
Does not include:
Gas box
RF Set.
LAM RESEARCH Die Zweifrequenzoxidkammer für Exelan A6 ist ein Ätzer/Ascher, der hochpräzise ätzen kann, um strukturierte und oxidische Schichten auf Halbleitermaterialien zu erzeugen. Diese Ausrüstung wird in der Halbleiterherstellung verwendet und ist entworfen, um das Aufladen zu reduzieren, die Definition der Funktionen zu verbessern und Plasmaschäden zu minimieren. Der Exelan A6 nutzt ein Doppelfrequenz-Netzteil, das bis zu 10MHz liefern kann. Die Kammer arbeitet mit einem optimierten Prozessdruck, wodurch ein homogenes Mehrfrequenzplasma entsteht, um eine Oxidschicht von etwa 1 nm pro 5 Sekunden zu entwickeln. Die Kammer verfügt über ein präzises Prozessfenster, um die beste Modellleistung und Konsistenz und einen einheitlichen Film zu gewährleisten. Der Raum verwertet zwei Hochgeschwindigkeitsmassenflusskontrolleure (MFCs), jeder, eine Korrosion habend, widerstandsfähiger Edelstahlkörper und eine breite sofortige Flussreihe, um genau und reproduzierbar zu bieten, ätzen Ergebnisse. Es verfügt auch über eine überflutete Sprinkleranlage mit beheiztem Wasser zum Kühlen und Schleifen der Teilefläche für Prozesstransparenz. Die Kammer verfügt über ein integriertes Auto-Vent-System, das durch die eingebaute Gaskrümmer-Vorschubeinheit verbessert wird und eine einfachere und schnellere Substratentfernung und Gefäßfüllung ermöglicht. Das Impedanz- und Matching-Netzwerk ermöglicht es der Maschine, mit einer Vielzahl von Leistungsstufen zu arbeiten und bietet eine optimale HF-Leistung und Wellenform, um die Ioneneinwirkung auf das Substrat zu verbessern. Der Exelan A6 ist auch mit einem Edelstahl-Thermoscheibenboot mit großzügiger 30mm Tiefe ausgestattet. Die Substrathalter des Waferbootes verwenden metallisches Netz bietet eine überlegene Wärmeableitung, die ein schnelleres thermisches Zyklus und eine verbesserte Temperaturgleichmäßigkeit ermöglicht, was zu verbesserten Prozessergebnissen führt. Insgesamt ist die Zweifrequenz-Oxidkammer für Exelan A6 eine hochpräzise und effiziente Maschine, die genaue Muster und Oxidschichten auf Halbleitern erzeugen kann. Seine beeindruckende Technologie und Funktionen ermöglichen hochpräzises Ätzen, reduziertes Aufladen, verbesserte Funktionsdefinition und minimierte Plasmaschäden.
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