Gebraucht LAM RESEARCH EOS #293601477 zu verkaufen

Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
EOS
ID: 293601477
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
Etcher, 12".
LAM RESEARCH EOS ist ein Ätzer und Ascher für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es verfügt über eine leistungsstarke, voll integrierte Ätzkammer, die überlegene Ätzrate und Gleichmäßigkeit für kritische Prozesse wie über Ätz- und Rückbiegungen bietet. Das Gerät kann mehrere Schichten gleichzeitig ätzen und kann sehr präzise Waferätzen. EOS-System kann verwendet werden, um eine breite Palette von Materialien zu ätzen und zu aschen, einschließlich Silizium, Germanium, SOI, High-K, Kupfer, Aluminium und Wolfram. Es nutzt eine zuverlässige, Einzel-Wafer-Bearbeitungskammer, die in der Lage ist, überlegene Ätzrate Gleichmäßigkeit zu bieten, mit einer Gleichmäßigkeit von +/-1% über den gesamten Wafer. Das Gerät ist in der Lage, Wafer bis 200 mm Durchmesser zu ätzen und kann bis zu 200 Wafer pro Stunde verarbeiten. Um nahtlose, wiederholbare Prozesse sicherzustellen, bietet LAM RESEARCH EOS mehrere Ätz- und Aschemodi, einschließlich einzelner Wafer-, Mehrschicht- und Mehrätzsequenzen. Dies ermöglicht eine verbesserte Prozesssteuerung und Präzision durch ihre Mikroschritteinstell- und Sättigungssteuerungsfunktionen. Darüber hinaus verfügt EOS über eine Vielzahl von Sensoren und Detektoren, einschließlich eines Rückkopplungsmechanismus mit geschlossenem Regelkreis zur Erkennung von Prozessgasen und -dichten sowie thermische Sensoren, die die Substrattemperaturen überwachen, um ideale Prozessbedingungen zu gewährleisten. LAM RESEARCH EOS ist für hohe Produktivität und Qualität konzipiert und eignet sich für präzise, wiederholbare Prozesse. Es profitiert von der LAM RESEARCH patentierten High-Density-Plasma (HDP) -Prozesstechnologie. Mit seiner robusten Technik, dem kostengünstigen Betrieb und der überlegenen Ätzrate eignet sich EOS ideal für jede Hochleistungs-Ätz- und Aschemaschine.
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