Gebraucht LAM RESEARCH EOS #293640560 zu verkaufen

LAM RESEARCH EOS ist eine reaktive Ionenätz-/Aschemaschine für fortschrittliche Prozesstechnologien. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Ätzanwendungen, von MEMS tiefe Gräben zu Photoresist Ätzungen. Das System verfügt über eine erweiterte Sub-Atomic Etch (SAE) -Fähigkeit mit der Fähigkeit, ultrahohe Seitenverhältnisse bereitzustellen. Es verfügt auch über einen Hochdurchsatz-Gitterätzansatz, der es ideal für hohe Serienläufe macht. EOS-Einheit basiert auf einer robusten Nanosekunden-Pulsplasma-Technologie mit integrierter Bias-Stromquelle, elektrostatischem Spannfutter und einer Vakuummaschine. Es ist in der Lage, Ätzraten bis zu 1000-mal schneller als herkömmliche Prozesse zu liefern, unter Beibehaltung einer hohen Präzision und Genauigkeit. Es hat ein niedriges Ätzschädigungsprofil, wodurch hohe Seitenverhältnisse und dicke Folien geätzt werden können. Es verfügt auch über eine hohe Durchsatzfähigkeit, so dass mehrere Ätzprozesse in einem einzigen Lauf abgeschlossen werden können. Das EOS-Tool LAM RESEARCH beinhaltet eine fortschrittliche resistiv gekoppelte Plasmaquelle (RCP), die hochenergetische Ionen bereitstellt, um ein effizientes Ätzen von Materialien unterschiedlicher Zusammensetzung zu ermöglichen. Sein Multi-Powered Source Asset hat die Fähigkeit, Ionenenergie zu variieren, um den Bedarf an tieferem Ätzen zu decken, was eine Prozessoptimierung ermöglicht. EOS ist zudem mit einer Niedertemperatur-Plasmaquelle ausgestattet, die reaktive Prozesse wie Poly etch und Reflow ermöglicht. Darüber hinaus ist das LAM RESEARCH EOS Modell mit einer Vielzahl von Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen ausgestattet. Seine Prozesskontrollausrüstung ermöglicht es Anwendern, die Ätzprozessparameter anzupassen, um qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das System über eine Prozessüberwachungseinheit mit Echtzeit-Ätzratenrückkopplung. Dadurch wird sichergestellt, dass Prozesse bestmöglich durchgeführt werden und Prozessvariationen minimiert werden. EOS etcher/asher ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Durchführung fortschrittlicher und zuverlässiger Ätzprozesse. Mit seinem breiten Spektrum an Prozesssteuerungsfunktionen und seiner hohen Durchsatzfähigkeit ist es eine ideale Wahl für viele Produktionsanforderungen. Durch die Bereitstellung hoher Qualität und zuverlässiger Ergebnisse ermöglicht es eine kostengünstige Herstellung von Strukturen mit hohem Seitenverhältnis und großen Oberflächen für Hochleistungsgeräte.