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LAM RESEARCH FLEX FX EFEM
ID: 9270875
System.
LAM RESEARCH FLEX FX EFEM ist eine führende Ätz- und Ascheausrüstung für Präzisionsätzen und andere verwandte Anwendungen. Mit einem leistungsstarken, fortschrittlichen Design ist es ein ideales Prozesswerkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen, wie z. B. hohe Seitenverhältnisse, thermisches Nanoätzen und Plasma-Nanoätzen. Es beinhaltet eine integrierte Vakuumunterstützungsfähigkeit für eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit. Die FLEX FX EFEM-Plattform wurde speziell für die Anforderungen moderner Ätz- und Ascheanwendungen entwickelt. LAM RESEARCH FLEX FX EFEMs fortschrittliches Design kann eine breite Palette von hohen Ätzseitenverhältnissen, großen Flächen und enger Bildregistriergenauigkeit mit hoher Wiederholbarkeit verarbeiten. Es verfügt auch über ein leistungsfähiges Regelungssystem, das Prozessparameter kontinuierlich überwacht und verwaltet, um Prozessanforderungen zu erfüllen oder zu übertreffen. Damit erreicht das Gerät höchste Leistungsstandards. FLEX FX EFEM enthält auch ein bordeigenes Kraftpaket von Ätzwerkzeugen und -prozessen. Seine mehreren Schichten von Materialien können von Metallen, Keramiken und Isolatoren bis hin zu organischen und Halbleitermaterialien reichen. Diese breite Palette von Materialien bietet dem Anwender die Flexibilität, verschiedene Wafer zu verarbeiten, mit der Sicherheit, jedes Mal hohe Präzision zu erzielen. Darüber hinaus integriert das fortschrittliche Design der Maschine Schutz- und Reinigungssysteme, um eine Umgebung zu gewährleisten, die für bestmögliche Ätz- und Ascheprozesse geeignet ist. LAM RESEARCH FLEX FX EFEM umfasst auch andere Spezialmerkmale, um einzigartige Anforderungen zu erfüllen. Eine patentierte Plasma- und Gitterwinkelverteilung optimiert die Plasmareaktivität für höchste Ätzgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Es verfügt auch über eine erweiterte Prozesssteuerung mit benutzerdefinierten Einstellungseingaben zur überlegenen Steuerung von Prozessparametern. Insgesamt ist FLEX FX EFEM ein fortschrittliches Ätz- und Veraschungswerkzeug mit High-End-Funktionen und Fähigkeiten. Sein leistungsstarkes Design und mehrere Schichten von Materialien ermöglicht es dem Benutzer, verschiedene Wafer mit Sicherheit präzise und wiederholbare Ergebnisse zu ätzen. Die integrierten Schutz- und Reinigungssysteme gewährleisten eine qualitativ hochwertige Prozessumgebung, während die Prozesskontrolle und die speziellen Funktionen eine vollständige Prozesskontrolle bieten und höchste Ätz- und Aschepräzision sowie Wiederholbarkeit gewährleisten.
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