Gebraucht LAM RESEARCH H12IHE #293661561 zu verkaufen

LAM RESEARCH H12IHE ist eine hochentwickelte Plasma Etcher/Asher-Ausrüstung vom Strahltyp, die hervorragende Ergebnisse für eine Vielzahl von Dünnschichtverarbeitungs- und Modifikationsanwendungen liefert. Sein Design beinhaltet technische Verbesserungen, um eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Präzision für kritische Ätzprozesse zu gewährleisten. Es verfügt über eine neue Generation fortschrittlicher Hochdruck-Gassteuerung, die ein hohes Maß an Anpassung und Flexibilität bietet. H12IHE ist eine Sechs-Kammer-Einheit, die aus drei Hauptabschnitten besteht: einer Quellkammer, einer Ätzkammer und einer N2-Kammer. Es enthält auch eine Ionenpistole mit einer langlebigen Schildanordnung für verbesserte Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine Kühlmittelmaschine für verbessertes Wärmemanagement. LAM RESEARCH H12IHE wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Produktionsanforderungen mit hohem Durchsatz zu erfüllen und gleichzeitig eine hervorragende Leistung über eine breite Palette von Ätzparametern zu liefern. Die Ätzquellenkammer ist mit einer Plasmaquelle (EEM) zur Versorgung der für den Ätzprozess benötigten energetischen Ionen ausgestattet. Das Hochdruckgasregelwerkzeug verfügt über Präzisionsdrucksteuerungen und atmosphärische Schwellenüberwachung, um den Betrieb auf die kontrollierteste, sicherste und effizienteste Weise zu gewährleisten. H12IHE enthält mehrere verschiedene Hochvakuum (HV) -Pumptechnologien, die benutzerdefinierte Kammerfüllraten ermöglichen und optimale Füllzeiten der Prozesskammer sowie ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ermöglichen. Die Ätzkammer ist so ausgelegt, dass sie eine überlegene Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Plasmaprozesse gewährleistet. Sein Linear-Vakuum-Profil sorgt für ein gleichmäßiges Ätzen über das Substrat. Das hochmoderne Gas-Flow Control Asset von LAM RESEARCH H12IHE bietet eine präzise Steuerung und automatisierte Verwaltung der physikalischen Parameter des Ätzprozesses. Die N2-Kammer sorgt für eine dichte N2-Umgebung, die die Ätzrate des zu ätzenden Materials stark reduziert. Diese Kammer enthält auch ein transparentes Fenster, das zeigt, wie der Ätzprozess fortschreitet. H12IHE verfügt über ein Bonusprozessmodul, mit dem Benutzer zusätzliche Prozessmodule zum Modell hinzufügen können, die den Betrieb mit höheren Durchsatzraten ermöglichen. LAM RESEARCH H12IHE wird durch ein umfassendes Netzwerk von Service- und Support-Mitarbeitern unterstützt, um sicherzustellen, dass Kunden höchste Leistung und Zuverlässigkeit erhalten. Die Ausrüstung ist so konzipiert, dass sie leicht aufrüstbar und anpassbar ist, sodass sie die neuesten Dünnschichtverarbeitungsanforderungen erfüllt. Es verfügt auch über ein eingebettetes Computersystem mit Arbeitssicherheitsstandards, die für die Überwachung von Sicherheitsparametern in Echtzeit verantwortlich sind. Seine verschiedenen Konstruktionsmerkmale wie die Präzisionsdrucksteuerung, die effiziente Gassteuerung und das lineare Vakuumprofil ermöglichen es, zuverlässige, wiederholbare und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu liefern.