Gebraucht LAM RESEARCH IGS #9157989 zu verkaufen

LAM RESEARCH IGS (Ionized Gas Source) ist ein spezialisiertes Ätz-/Abisolierwerkzeug, das im Wafer-Herstellungsprozess verwendet wird. Es dient zum Ätzen und Streifen mehrerer Filme von der Waferoberfläche. Dieser Ätzer/Ascher ist ein High Density Plasma (HDP) -Werkzeug und arbeitet auf einzigartige Weise im Vergleich zu anderen Geräten. Das Verfahren nutzt sowohl Plasma- als auch Dampfphasentechnologien, um Ultraniederdruck und Ultrahochpräzisionsätzen zu erreichen. IGS besteht aus zwei Hauptkammern, der Hauptreaktionskammer und der Dampfphasenreaktionskammer. Die Hauptreaktionskammer, das Herz des Systems, enthält ein Prozessgas, das unter hohem Druck in die Kammer eingeleitet wird. Dieser Druck ist auf den Boden des Substrats gerichtet, wodurch die Ionen mit dem Ätzresist und dem darunterliegenden Material reagieren und einen zerstäubten Rückstand bilden können. Nach Beendigung dieser Reaktion wird dann der obere Teil der Kammer mit einem inerten Trägergas gespült, um eventuell flüchtige Ätzprodukte zu entfernen. Die Dampfphasenreaktionskammer dient zum Abziehen von Folien. In dieser Kammer wird ein Prozeßgas bei erhöhter Temperatur eingeleitet, wodurch der Resist verdampft und von der Substratoberfläche entfernt wird. Zur Optimierung des Prozesses zur Entfernung bestimmter Folientypen wird ein fortschrittliches Temperatur- und Gasstromregelsystem eingesetzt. LAM RESEARCH IGS ist in der Lage, extrem hohe Ätzraten, niedrige Ionenätzselektivität, hohe Ätzgleichmäßigkeit und hohe Prozessstabilität zu erreichen. Weiterhin kann die Ätzrate sehr genau gesteuert werden, um die Bildgebung und Lithographie exakt zu gestalten. Durch seine fortschrittlichen Funktionen, wie den integrierten Wäscher, kombiniert IGS auch hohen Durchsatz mit exzellenten Sicherheitsstandards. Abschließend ist LAM RESEARCH IGS ein vielseitiges Ätz-/Abisolierwerkzeug, das mit hoher Präzision und hoher Effizienz arbeitet. Mit seinen fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen eignet sich dieser Ätzer/Ascher gut für die anspruchsvollen Anforderungen des Wafer-Herstellungsprozesses.