Gebraucht LAM RESEARCH IGS #9157990 zu verkaufen

Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
IGS
ID: 9157990
Gas box.
LAM RESEARCH IGS (Inductively-Coupled Plasma Reactive Ion Etcher/Asher) ist eine fortschrittliche Ätzausrüstung für Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Es basiert auf der exklusiven LAM Pulsed Plasma Reactive Ion Etching (PPP-RIE) Technologie, die schnelle, hochpräzise Ätzprozesse ohne zusätzliche Gefahrstoffe ermöglicht. IGS-Ätzer/Ascher verfügt über eine vollständig geschlossene Kammer und ermöglicht es dem Benutzer, eine Vielzahl von Ätzprozessen zu nutzen und dabei präzise Geschwindigkeit, Tiefe und seitliche Kontrolle zu erzielen. LAM RESEARCH IGS-System nutzt eine robuste Energieplattform, um eine elektrodenlose induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Reaktionskammer zu erzeugen. Dieser Hochspannungsgenerator weist eine aktive Elektromagnetik sowie einstellbare Spannungs- und Strompegel zur präzisen Steuerung der Plasmaschicht auf. Es erzeugt eine Tieftemperatur-Hochdichte-Plasmaschicht, die bei herkömmlichen Ätzverfahren schnellere Ätzzeiten ermöglicht. IGS-Einheit umfasst eine Reihe von separaten Gasquellen, die mit dem Gasverteilchassis verbunden sind. Diese Gase werden dann gemischt und anschließend der Kammer zugeführt, so daß mehrere Ätzvorgänge gleichzeitig möglich sind. Ein weiteres Merkmal der LAM RESEARCH IGS Maschine ist das integrierte Optimierungstool, das eine Echtzeit-Prozessoptimierung ermöglicht. Die Optimierungsanlage verwendet eine Vielzahl von Sensoren in der Ätzkammer und Prozesshardware sowie spezialisierte Software, um den Ätzprozess kontinuierlich zu überwachen. Dieses eng integrierte Modell trägt dazu bei, dass die Ätz- und Aschvorgänge wie erwartet ablaufen und ermöglicht es dem Benutzer, Korrekturanpassungen bei Bedarf vorzunehmen. Der multifunktionale IGS-Ätzer/Ascher eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen wie MEMS, MEMS-Sensoren, Nanotechnologie, Mikroherstellung, biomedizinische Geräte, Optoelektronik, mikro-elektromechanische Systeme (MEMS), Mikroschaltungen und andere Spezialanwendungen. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten ist es die führende Ätzausrüstung für die Halbleiterindustrie.
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