Gebraucht LAM RESEARCH Kiyo EXP #9311228 zu verkaufen

LAM RESEARCH Kiyo EXP
ID: 9311228
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
Systems, 12" Process: ETC 2014 vintage.
LAM RESEARCH Kiyo EXP ist ein Ätzer/Ascher, der speziell für die Halbleiterverarbeitung verwendet wird. Es ist ein Einzelwafer-Ätz-/Aschesystem, das eine präzise Steuerung von Prozessgasen und einen schnellen Durchsatz für komplexe, extrem kleine Prozessgeometrien ermöglicht. Kiyo EXP ist in der Lage, hohen Durchsatz, mit einer maximalen Kapazität von 150 Wafern pro Stunde. Sein fortschrittliches Design minimiert Luftströmungsturbulenzen und chemische Rückstände und ermöglicht wiederholbare Prozessausbeuten. LAM RESEARCH Kiyo EXP verfügt über ein patentiertes reaktives reaktives Ätzverfahren (REE), das Ätzgeschwindigkeit in der Größenordnung von 200 nm/min erreichen kann. Es bietet eine höhere Selektivität als herkömmliche Ätztechniken, minimiert die Redeposition, ermöglicht die Ablagerung ohne Überätzen und verbessert die Ausbeute. Kiyo EXP ist kompatibel mit organischen und anorganischen Ätzprozessen, einschließlich Deep-RIE (Reactive Ion Etching), Trockenätzen und Nassätzen. Seine hohen Ätzraten und Selektivitäten machen es ideal zum Ätzen von SiO2, SiNx und SiOC. Es ist auch in der Lage, hohe Seitenverhältnisse ätzen und anisotrope Musterung für Speicher-und Logik-Geräte-Anwendungen. LAM RESEARCH Kiyo EXP verfügt über einen chemischen Betriebsbereich von 12 Zoll Quecksilber (mm/Hg) bis 1000 mm/Hg und einen Temperaturbereich von -25 ° C bis + 400 ° C. Es verfügt über einen optionalen bordeigenen Massendurchflussregler (MFC) zur präzisen Steuerung von Gasen und ein Inertgasregelsystem für den Betrieb der Gaschemie bei Temperaturen über 400 ° C. Kiyo EXP verfügt auch über einen Hochleistungs-HF-Generator, der bis zu 2000 Watt Leistung für Ätzprozesse bereitstellen kann. LAM RESEARCH Kiyo EXP ist ein zuverlässiger und präziser Einzelwafer-Ätzer/Ascher, ideal für Halbleiterherstellungsprozesse, die ein präzises Ätzen, einen hohen Durchsatz und eine Reihe von Temperaturen und chemischen Atmosphären erfordern. Sein patentiertes REE-Verfahren bietet eine höhere Selektivität als herkömmliche Ätztechniken, was zur Verbesserung der Geräteausbeute und der Prozesswiederholbarkeit beiträgt.
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