Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed #293615958 zu verkaufen

LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed
ID: 293615958
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
CVD System, 12" 2007 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed ist eine Ätz- und Ascheeinrichtung für die Halbleiterscheibenherstellung. NOVELLUS Speed Platform bietet erweiterte Prozessfähigkeit und Flexibilität für Ätz- und Ascheanwendungen. Es kombiniert das fortschrittliche Plasma-Etch-System von LAM und NOVELLUS CoreAsh Patterning-Technologien. Diese Plattform ist für die neuesten CMOS- und Halbleiterprodukttechnologien konzipiert, darunter 3D NAND, Unit-on-Chip (Soc), MEMS, RF und RF-SOI. Die LAM RESEARCH Speed-Plattform bietet den höchsten Ätz- und Aschedurchsatz auf dem Markt und ermöglicht es Kunden, die Produktivität zu maximieren und Ausfallzeiten zu minimieren. Mit seiner fortschrittlichen Technologie wurde es entwickelt, um Partikelverunreinigungen zu minimieren, eine enge Filmdickenkontrolle sicherzustellen und extrem niedrige Partikelkonzentrationen zu liefern. Die Maschine bietet die beste Skalierbarkeit und Wiederholbarkeit in der Branche und gleichzeitig maximale Prozessflexibilität über alle Halbleiterprozesse hinweg. Geschwindigkeit hat eine breite Palette von Anwendbarkeit, einschließlich Plasmaätzen, Trockenätzen, Mustern, Lithographie, Planarisierung und Ionenmahlen. Die Plasmaätzkammern sind so konzipiert, dass sie die höchste Einheitlichkeit in der Industrie bieten und die Fähigkeit haben, Ätzprozesse feinabzustimmen, um die besten Ergebnisse zu erzielen. Die HF-Netzteile können sowohl für Ätz- als auch für Ascheprozesse verwendet werden und bieten eine Vielzahl von Prozessoptionen. Die Aschekammer ist so konzipiert, dass die Ascherate über mehrere Wafer hinweg konstant ist und die elektrischen Eigenschaften für eine Vielzahl von Anwendungen gesteuert werden können. Das Werkzeug verfügt über hervorragende Prozesssteuerungsfähigkeiten, die eine enge Kontrolle der Filmdicke und der Partikelkonzentration ermöglichen. Das Asset kann entweder im offenen oder im geschlossenen Schleifenmodus ausgeführt werden, wobei jeder seine eigenen Vorteile bietet. Der Open Loop-Modus ermöglicht höchste Flexibilität, während der Closed Loop-Modus die höchste Leistung und Ausbeute bietet. Darüber hinaus kombiniert LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed Technologien auf Modell- und Prozessebene, um Prozessparameter in Echtzeit zu optimieren. Dies sorgt für einen verbesserten Durchsatz und bessere Ausbeute bei verkürzten Wartezeiten zwischen den Zyklen. NOVELLUS Speed Platform bietet eine umfassende Lösung für die fortschrittlichste Halbleiterverarbeitung. Es bietet den höchsten verfügbaren Ätz- und Aschedurchsatz, eine enge Filmdickenkontrolle und die beste Skalierbarkeit, um die höchsten Erträge in der Branche zu liefern. Mit seinen fortschrittlichen Steuerungssystemen und leistungsstarken Prozessplattformen ist die LAM RESEARCH Speed Plattform die ideale Wahl für Kunden, die die Prozessflexibilität und den Durchsatz maximieren möchten.
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