Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #9293142 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9293142
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
CVD System, 12"
Power option: K-Model
Interconnect cable length: 22 m
Server type: DS/ EC
Process module options:
Process capability: HDR DB SiN / USG / SiN / ARL
ASTRON HF-S (15L) RPC Generator
RF Configuration: SiRF kit
Heated top plate: Passive
Hot chamber cover
APEX 5513 HF Generator
PDX 2500 LF Generator
ADVACED ENERGY Navigator HF Matcher
COMDEL LF Matcher, Two channel fixed matcher
Process manometer: Heated, 10 Torr
Hasting gauge pm
Hastings gauge foreline
(5) View ports
Spindle type: Servo
Pedestal option: Low profile
Minimum Contact Area (MCA): Pin, ball
Carrier ring: Standard
Pendulum valve: VAT
Lift pin: Servo type
Shower head, 13"
EIOC Configuration: Standard
IR EPD
Foreline type: Symmetric
Gas box configuration: Standard 12 channels
UI Option: Standard
UI Location: Right / Left
Signal tower
Front signal: Buzzer arm mount
Fascia color: Sky white
BROOKS AUTOMATION Reliance 9 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION Mag 8 Vacuum robot
End effector: (2) Arms / Friction type
(4) FOUPs
BROOKS AUTOMATION / JENOPTIK Vision Load port
OMRON RFID Reader
Lamp
Ionizer kit
Light curtain option
Additional front end EMO
Load lock: Standard In / Out bound load lock
Filter Fan Unit (FFU) Option
Chase computer with cart
Throttle valve type: NORCAL
2008 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extreme ist ein Weltklasse-Ätzer und Ascher für die Halbleiterindustrie. Es wurde speziell entwickelt, um fortschrittliche Präzision und niedrige Defekte für kritische Ätz- und Ascheoperationen bereitzustellen. NOVELLUS Äußerster Vektor verwertet ein revolutionäres dichtes Doppelquellplasma in einer Prozession gehende Technologie, um verbesserte Kontrolle, niedrigere Partikelngeneration zu erreichen, und der höhere Durchfluss für das Zurückende der Linie ätzt Anwendungen. Es unterstützt auch eine breite Palette von Ätzchemien, um eine vielseitige Prozessoptimierung und eine kosteneffiziente Verarbeitung fortschrittlicher Knotengeräte zu ermöglichen. LAM RESEARCH VECTOR EXTREME etcher/asher bietet maximale Flexibilität und Skalierbarkeit für verschiedene Gerätestrukturen und Anwendungen und unterstützt eine breite Palette von Paketformaten, Größen und Größen. Es verfügt über eine hochkonfigurierbare 750mm Plattform und ist in der Lage, Werkzeuggrößen bis zu 3750mm2 zu handhaben. Weitere wichtige Merkmale sind die Dynamic-Etch-Technologie, eine fortschrittliche physikalische Modellierungsfähigkeit zur Optimierung des Ätzprozesses für DVD-Anwendungen. Micron-Accuracy Leveling (MAL), eine einzigartige Spitze-Und-Talspurenhöhenentschädigungstechnologie für den genauen ätzt Prozesssteuerung; und erweiterbarer Wafer Changer (EBR), ein modulares Arbeitssystem in einer zusammenhängenden offenen Architektur, das die Prozessflexibilität maximiert. Die Abhebeätzfähigkeit von Vector Extreme wurde entwickelt, um die Notwendigkeit zu minimieren, den Wafer während der Verarbeitung über das Spannfutter zu bewegen und gleichzeitig die Druckschwankungen über den Wafer zu verringern. Darüber hinaus umfasst LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREME fortschrittliche Reinigungsfunktionen wie Advanced High Temperature Hydrid CVD (AHT-CVD), um maximale Prozessstabilität und minimale Partikelerzeugung zu gewährleisten. Mit robusten Prozesssteuerungsfunktionen wie Active Process Monitoring (APM), Process Adapter Autotuning und Extended Recipe Based Interfacing (ERBI) gewährleistet es eine präzise Abstimmung mit mehreren Zielen für eine einfache Ätzprozessoptimierung. NOVELLUS VECTOR EXTREME bietet Zuverlässigkeit und Robustheit mit einer Vielzahl von Funktionen, um die anspruchsvollsten Anforderungen an Halbleiterbauelemente von heute zu erfüllen. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, dem hohen Durchsatz und der Konfigurierbarkeit ist LAM RESEARCH Vector Extreme die perfekte Wahl für alle Ihre Ätz- und Veraschungsanforderungen in der Halbleiterindustrie.
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