Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #9293142 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9293142
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
CVD System, 12" Power option: K-Model Interconnect cable length: 22 m Server type: DS/ EC Process module options: Process capability: HDR DB SiN / USG / SiN / ARL ASTRON HF-S (15L) RPC Generator RF Configuration: SiRF kit Heated top plate: Passive Hot chamber cover APEX 5513 HF Generator PDX 2500 LF Generator ADVACED ENERGY Navigator HF Matcher COMDEL LF Matcher, Two channel fixed matcher Process manometer: Heated, 10 Torr Hasting gauge pm Hastings gauge foreline (5) View ports Spindle type: Servo Pedestal option: Low profile Minimum Contact Area (MCA): Pin, ball Carrier ring: Standard Pendulum valve: VAT Lift pin: Servo type Shower head, 13" EIOC Configuration: Standard IR EPD Foreline type: Symmetric Gas box configuration: Standard 12 channels UI Option: Standard UI Location: Right / Left Signal tower Front signal: Buzzer arm mount Fascia color: Sky white BROOKS AUTOMATION Reliance 9 ATM Robot BROOKS AUTOMATION Mag 8 Vacuum robot End effector: (2) Arms / Friction type (4) FOUPs BROOKS AUTOMATION / JENOPTIK Vision Load port OMRON RFID Reader Lamp Ionizer kit Light curtain option Additional front end EMO Load lock: Standard In / Out bound load lock Filter Fan Unit (FFU) Option Chase computer with cart Throttle valve type: NORCAL 2008 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extreme ist ein Weltklasse-Ätzer und Ascher für die Halbleiterindustrie. Es wurde speziell entwickelt, um fortschrittliche Präzision und niedrige Defekte für kritische Ätz- und Ascheoperationen bereitzustellen. NOVELLUS Äußerster Vektor verwertet ein revolutionäres dichtes Doppelquellplasma in einer Prozession gehende Technologie, um verbesserte Kontrolle, niedrigere Partikelngeneration zu erreichen, und der höhere Durchfluss für das Zurückende der Linie ätzt Anwendungen. Es unterstützt auch eine breite Palette von Ätzchemien, um eine vielseitige Prozessoptimierung und eine kosteneffiziente Verarbeitung fortschrittlicher Knotengeräte zu ermöglichen. LAM RESEARCH VECTOR EXTREME etcher/asher bietet maximale Flexibilität und Skalierbarkeit für verschiedene Gerätestrukturen und Anwendungen und unterstützt eine breite Palette von Paketformaten, Größen und Größen. Es verfügt über eine hochkonfigurierbare 750mm Plattform und ist in der Lage, Werkzeuggrößen bis zu 3750mm2 zu handhaben. Weitere wichtige Merkmale sind die Dynamic-Etch-Technologie, eine fortschrittliche physikalische Modellierungsfähigkeit zur Optimierung des Ätzprozesses für DVD-Anwendungen. Micron-Accuracy Leveling (MAL), eine einzigartige Spitze-Und-Talspurenhöhenentschädigungstechnologie für den genauen ätzt Prozesssteuerung; und erweiterbarer Wafer Changer (EBR), ein modulares Arbeitssystem in einer zusammenhängenden offenen Architektur, das die Prozessflexibilität maximiert. Die Abhebeätzfähigkeit von Vector Extreme wurde entwickelt, um die Notwendigkeit zu minimieren, den Wafer während der Verarbeitung über das Spannfutter zu bewegen und gleichzeitig die Druckschwankungen über den Wafer zu verringern. Darüber hinaus umfasst LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREME fortschrittliche Reinigungsfunktionen wie Advanced High Temperature Hydrid CVD (AHT-CVD), um maximale Prozessstabilität und minimale Partikelerzeugung zu gewährleisten. Mit robusten Prozesssteuerungsfunktionen wie Active Process Monitoring (APM), Process Adapter Autotuning und Extended Recipe Based Interfacing (ERBI) gewährleistet es eine präzise Abstimmung mit mehreren Zielen für eine einfache Ätzprozessoptimierung. NOVELLUS VECTOR EXTREME bietet Zuverlässigkeit und Robustheit mit einer Vielzahl von Funktionen, um die anspruchsvollsten Anforderungen an Halbleiterbauelemente von heute zu erfüllen. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, dem hohen Durchsatz und der Konfigurierbarkeit ist LAM RESEARCH Vector Extreme die perfekte Wahl für alle Ihre Ätz- und Veraschungsanforderungen in der Halbleiterindustrie.
Es liegen noch keine Bewertungen vor