Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector #9227340 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9227340
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
CVD System, 12"
PE-TEOS Process
Automatic lift chamber mechanism
I/O Port stage: OHT
Foup capability: (25) Slots
Controller:
System monitor: LCD Type
Remote monitor: Keyboard, LCD type
Controllers & boards temperature: Under 40°C
Gas system:
Gas line: 1/4 VCR
NF3 Gas
Filter: SUS316 SS / NF3 Hastelloy
Gas box temperature: Display by digital gauge
Negative voltage of MFC signal: Display, interlock
SAMSUNG Chamber pump
Load lock & turbo molecular pump
Capacitance manometer for chamber pressure control: Tempered type
Pressure transducer for chamber: ATM Switch
TM & Load lock fore line shut-off valve: Electric valve
Ground for D NET: Chassis ground
Circuit safe guard: All Circuit breaker
Internal utility line color SEMI Standard
Heat exchanger: Pressure control
Chamber
AC Rack
NPP Rack
NTU Box
Wall computer
Chase computer
2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector ist ein fortschrittliches Ätz-/Ascherwerkzeug, das in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Es ist eine Umweltprozesskammer, die ein hochpräzises Plasmaätzen von Substraten wie Quarz, Silizium und bestimmten Metallen ermöglicht. NOVELLUS Vector verfügt über zwei Plasmaquellen: eine Standardquelle, das ist ein 13,56 MHz HF-Generator, und eine optionale, schaltbare Quelle, die eine niederfrequente HF-Stromquelle ist. Diese beiden Plasmaquellen ermöglichen das Ätzen einer Vielzahl von Materialien mit unterschiedlichen Ätzchemien. Es verfügt auch über eine Hochleistungs-Schnellglühkammer (RTA), die eine schnellere thermische Behandlung von Substraten ermöglicht. LAM RESEARCH Vector hat mehrere Funktionen, die es zu einem vielseitigen Ätzwerkzeug machen. Sein vertikales Design bietet eine einheitliche Ätzumgebung, während seine selbstjustierende Stufe verwendet wird, um für verschiedene Substratmorphologie auszurichten und anzupassen. Es ist auch mit automatisierten Ventilen ausgestattet, um verschiedene Verarbeitungschemien zu maximieren, sowie Präzisionsbewegungsregler, um den Wafer auf die Zielätztiefe auszurichten. Darüber hinaus ist Vector mit einem ausgeklügelten Scan-Algorithmus ausgestattet, um Prozesszeit und -tiefe genau zu steuern. Die automatisierte Be- und Entladung des Wafers erleichtert auch die Bedienung. Die erweiterten Ätzfähigkeiten von LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector machen es zu einem idealen Werkzeug für eine Vielzahl von Projekten. Es bietet eine optimale Ätzqualität mit seiner Kombination aus Genauigkeit und Kontrolle. Seine selbstregulierende Plasmaquelle ermöglicht es dem Bediener auch, die Ätzdichte und Rezepturen einfach anzupassen und effiziente und effektive Verarbeitungsergebnisse zu liefern. Darüber hinaus ermöglichen seine schnellen thermischen Verarbeitungsmöglichkeiten einen kompakten Bearbeitungszyklus und sorgen dafür, dass Substrate schnell für den nächsten Prozess bereit sind. Insgesamt ist NOVELLUS Vector etcher/asher ein benutzerfreundliches, hochentwickeltes Ätzsystem. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterherstellungsprojekte aufgrund seiner hochpräzisen Plasmaätzfähigkeiten kombiniert mit schnellem thermischem Glühen und automatisiertem Wafer-Handling. Seine vielseitigen Eigenschaften machen LAM RESEARCH Vector zu einem unglaublich zuverlässigen und effektiven Ätzwerkzeug.
Es liegen noch keine Bewertungen vor