Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector #9227340 zu verkaufen

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ID: 9227340
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
CVD System, 12" PE-TEOS Process Automatic lift chamber mechanism I/O Port stage: OHT Foup capability: (25) Slots Controller: System monitor: LCD Type Remote monitor: Keyboard, LCD type Controllers & boards temperature: Under 40°C Gas system: Gas line: 1/4 VCR NF3 Gas Filter: SUS316 SS / NF3 Hastelloy Gas box temperature: Display by digital gauge Negative voltage of MFC signal: Display, interlock SAMSUNG Chamber pump Load lock & turbo molecular pump Capacitance manometer for chamber pressure control: Tempered type Pressure transducer for chamber: ATM Switch TM & Load lock fore line shut-off valve: Electric valve Ground for D NET: Chassis ground Circuit safe guard: All Circuit breaker Internal utility line color SEMI Standard Heat exchanger: Pressure control Chamber AC Rack NPP Rack NTU Box Wall computer Chase computer 2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector ist ein fortschrittliches Ätz-/Ascherwerkzeug, das in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Es ist eine Umweltprozesskammer, die ein hochpräzises Plasmaätzen von Substraten wie Quarz, Silizium und bestimmten Metallen ermöglicht. NOVELLUS Vector verfügt über zwei Plasmaquellen: eine Standardquelle, das ist ein 13,56 MHz HF-Generator, und eine optionale, schaltbare Quelle, die eine niederfrequente HF-Stromquelle ist. Diese beiden Plasmaquellen ermöglichen das Ätzen einer Vielzahl von Materialien mit unterschiedlichen Ätzchemien. Es verfügt auch über eine Hochleistungs-Schnellglühkammer (RTA), die eine schnellere thermische Behandlung von Substraten ermöglicht. LAM RESEARCH Vector hat mehrere Funktionen, die es zu einem vielseitigen Ätzwerkzeug machen. Sein vertikales Design bietet eine einheitliche Ätzumgebung, während seine selbstjustierende Stufe verwendet wird, um für verschiedene Substratmorphologie auszurichten und anzupassen. Es ist auch mit automatisierten Ventilen ausgestattet, um verschiedene Verarbeitungschemien zu maximieren, sowie Präzisionsbewegungsregler, um den Wafer auf die Zielätztiefe auszurichten. Darüber hinaus ist Vector mit einem ausgeklügelten Scan-Algorithmus ausgestattet, um Prozesszeit und -tiefe genau zu steuern. Die automatisierte Be- und Entladung des Wafers erleichtert auch die Bedienung. Die erweiterten Ätzfähigkeiten von LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector machen es zu einem idealen Werkzeug für eine Vielzahl von Projekten. Es bietet eine optimale Ätzqualität mit seiner Kombination aus Genauigkeit und Kontrolle. Seine selbstregulierende Plasmaquelle ermöglicht es dem Bediener auch, die Ätzdichte und Rezepturen einfach anzupassen und effiziente und effektive Verarbeitungsergebnisse zu liefern. Darüber hinaus ermöglichen seine schnellen thermischen Verarbeitungsmöglichkeiten einen kompakten Bearbeitungszyklus und sorgen dafür, dass Substrate schnell für den nächsten Prozess bereit sind. Insgesamt ist NOVELLUS Vector etcher/asher ein benutzerfreundliches, hochentwickeltes Ätzsystem. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterherstellungsprojekte aufgrund seiner hochpräzisen Plasmaätzfähigkeiten kombiniert mit schnellem thermischem Glühen und automatisiertem Wafer-Handling. Seine vielseitigen Eigenschaften machen LAM RESEARCH Vector zu einem unglaublich zuverlässigen und effektiven Ätzwerkzeug.
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