Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK 2300 Kiyo45 #9255639 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK 2300 Kiyo45 ist ein Ätzer/Ascher zur Herstellung integrierter Schaltungen und anderer mikroelektronischer Geräte. Dieser fortschrittliche Ätzer/Ascher wurde entwickelt, um qualitativ hochwertige Ergebnisse mit maximaler Wiederholbarkeit und minimaler Ausfallzeit zu erzielen. Das System ist speziell für hohe Ätz-/Ascheraten entwickelt, mit fortschrittlichen Eigenschaften für hohe Partikelselektivität und Flachheit des Wafers. ONTRAK 2300 Kiyo45 verfügt über ein effizientes Prozesskammerdesign, das den maximalen Durchsatz gewährleistet. Die Kammer enthält spezielle Ziele für verschiedene Ätz- und Ascheprozesse sowie mehrere Komponenten, die unterschiedliche optimierte Ergebnisse liefern. Dieser Ätzer/Ascher ist auch mit optischen Sensoren und Sichtausrichtungssystemen ausgestattet, um sicherzustellen, dass das Substrat an der genauen Stelle platziert wird. Die fortschrittliche Partikelselektivität dieses Ätzers/Aschers hat es ermöglicht, überlegene Entfernungsraten zu erzielen. Die integrierte Sensortechnologie bietet eine weitaus genauere Vorhersage von Ätz-/Ascheraten als bisher erreichbar und ermöglicht gleichzeitig eine bessere Kontrolle der Partikeleigenschaften. Diese Technologie ermöglicht die Optimierung von Ätz-/Ascheprozessen und die schnelle und genaue Auswahl des gewünschten Materials. LAM RESEARCH 2300 Kiyo45 verfügt zudem über ein integriertes Wafer-Ebenheitsmodul, das Stabilität bei Ätz-/Ascheprozessen bietet und dazu beiträgt, dass der gesamte Wafer gleichmäßig abgedeckt wird. Dieses System wurde entwickelt, um wiederholbare Ergebnisse und eine gleichmäßige Abdeckung der gesamten Oberfläche zu gewährleisten, auch auf den anspruchsvollsten Wafern. Insgesamt bietet 2300 Kiyo45 mit seinen erweiterten Ätz- und Veredelungsfunktionen eine hervorragende Leistung. Das effiziente Prozesskammerdesign sowie die optischen Sensoren ermöglichen einen höheren Durchsatz und die integrierten Targeting-Systeme sorgen für maximale Zuverlässigkeit. Darüber hinaus liefern die fortschrittlichen Partikelselektivitäts- und Wafer-Ebenheitsmodule überlegene Ergebnisse, die dazu beitragen, dass die gewünschten Ergebnisse bei minimalen Stillstandszeiten erzielt werden.