Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9098962 zu verkaufen

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ID: 9098962
Poly etcher, 12" Signal tower: (3) Colors SMIF(EFEM) (3) Poly etch chambers (1) MWAVE STRPR (3) Load ports (1) ATM Robot (1) Buffer station (25) Slots (1) Aligner (2) Load locks (4) Slot cool chamber Megatran7 / Broooks transfer robot Etch chamber TM Pressure gauge: HPS Series907 / MKS TM Pressure control: MKS Series640 LL Pressure gauge: Hasting Model of chamber: 2300 Metal Model of pressure gauge: MKS, 0.1Torr Model of throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT Model of turbo pump: STP-XA2703CV/Edwards Model of TCP RF generator: APEX1513 / AE Model of bias RF generator: APEX1513 / AE MW Chamber Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR Model of throttle gate valve: MKA, 253B-24836 Model of vaporizer: MKS, VODMB33CRIBE Model of MW generator: Revolution, 7690LAM-23 configuration of MFC: Ar 2SLM, O2 5SLM, N2 1SLM Configuration of gas panel, etch chamber Type of gas panel: 16-Line IGS block (16) Gas channel Model of MFC: SEC-Z313M Configuration of gas: CF4 50sccm O2 20sccm CL2 200sccm CH2F2 50sccm HBr 500sccm He 500sccm O2 200sccm H2 100sccm SF6 10sccm Ar 500sccm HBr 50 sccm C2F6 200sccm CF4 200sccm SF6 200sccm N2 100sccm CHF6 200sccm Configuration of AC rack: 208VAC 3ph (4) Wires 400 AMPS 50/60Hz Missing parts: Load ports 2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 Etcher/Asher ist ein Stück Hardware zum Ätzen oder Ablegen dünner Filme auf einem Substrat. Die Einheit ist eine Einkammer-Einzelwafer-Ausrüstung, die mit Hilfe der Plasmaquellentechnologie hervorragende Ätz- und Ascheergebnisse erzielt. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafergrößen zu handhaben, von 2 „(50 mm) bis 8“ (203,2 mm) im Durchmesser. Die Prozesskammer ist ein abgedichtetes Edelstahlgehäuse mit einer Quarzdeckwand. Dies ermöglicht eine schnelle Erwärmung und Kühlung und gewährleistet die Verträglichkeit mit korrosiven und gefährlichen Materialien. Die Kammer hat ein einzigartiges Design mit zwei Platten, das eine bessere Prozessisolierung und -kontrolle ermöglicht. Es ist auch mit anspruchsvollen Druckaufnehmern ausgestattet, um die Prozessintegrität und Ausbeute zu erhalten. ONTRAK Kiyo 45 bietet auch eine fortschrittliche Plasmaquellentechnologie, die eine breite Palette von Leistungsstufen und Prozessrezeptflexibilität erzeugt. Es ermöglicht das gleichzeitige Ätzen und Aschen ohne Substratschäden und bietet ultradünnes Folienätzen und Abscheiden sowie Richtungs- und anisotropes Ätzen. Das Gerät ist zudem mit einem robusten Vakuumsystem ausgestattet, das eine schnelle Evakuierung und optimierte Prozesszeiten ermöglicht. LAM RESEARCH Kiyo 45 verfügt über ein hohes Maß an Automatisierung und Bedienung. Es bietet eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) und umfassende Datenverwaltungsfunktionen. Es bietet erweiterte Prozessüberwachung und -verfolgung sowie detaillierte Rezeptrückruf- und Wiederholbarkeit. In Verbindung mit einem kompatiblen ONTRAK Prozesskit bietet Kiyo 45 eine komplette Ätz- und Aschelösung. Dazu gehören ein Netzteil, eine Gasfördereinheit, eine visuelle Maschine, ein HF-Werkzeug, ein Elektronikschrank und zusätzliches Zubehör. Mit seiner leistungsstarken Kombination aus Hard- und Software kann LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 dünne Filme ätzen und ablegen, um überlegene Ergebnisse zu erzielen.
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