Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9098962 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9098962
Poly etcher, 12"
Signal tower: (3) Colors
SMIF(EFEM)
(3) Poly etch chambers
(1) MWAVE STRPR
(3) Load ports
(1) ATM Robot
(1) Buffer station
(25) Slots
(1) Aligner
(2) Load locks
(4) Slot cool chamber
Megatran7 / Broooks transfer robot
Etch chamber
TM Pressure gauge: HPS Series907 / MKS
TM Pressure control: MKS Series640
LL Pressure gauge: Hasting
Model of chamber: 2300 Metal
Model of pressure gauge: MKS, 0.1Torr
Model of throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
Model of turbo pump: STP-XA2703CV/Edwards
Model of TCP RF generator: APEX1513 / AE
Model of bias RF generator: APEX1513 / AE
MW Chamber
Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR
Model of throttle gate valve: MKA, 253B-24836
Model of vaporizer: MKS, VODMB33CRIBE
Model of MW generator: Revolution, 7690LAM-23
configuration of MFC: Ar 2SLM, O2 5SLM, N2 1SLM
Configuration of gas panel, etch chamber
Type of gas panel: 16-Line IGS block
(16) Gas channel
Model of MFC: SEC-Z313M
Configuration of gas:
CF4 50sccm
O2 20sccm
CL2 200sccm
CH2F2 50sccm
HBr 500sccm
He 500sccm
O2 200sccm
H2 100sccm
SF6 10sccm
Ar 500sccm
HBr 50 sccm
C2F6 200sccm
CF4 200sccm
SF6 200sccm
N2 100sccm
CHF6 200sccm
Configuration of AC rack:
208VAC 3ph (4) Wires 400 AMPS 50/60Hz
Missing parts: Load ports
2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 Etcher/Asher ist ein Stück Hardware zum Ätzen oder Ablegen dünner Filme auf einem Substrat. Die Einheit ist eine Einkammer-Einzelwafer-Ausrüstung, die mit Hilfe der Plasmaquellentechnologie hervorragende Ätz- und Ascheergebnisse erzielt. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafergrößen zu handhaben, von 2 „(50 mm) bis 8“ (203,2 mm) im Durchmesser. Die Prozesskammer ist ein abgedichtetes Edelstahlgehäuse mit einer Quarzdeckwand. Dies ermöglicht eine schnelle Erwärmung und Kühlung und gewährleistet die Verträglichkeit mit korrosiven und gefährlichen Materialien. Die Kammer hat ein einzigartiges Design mit zwei Platten, das eine bessere Prozessisolierung und -kontrolle ermöglicht. Es ist auch mit anspruchsvollen Druckaufnehmern ausgestattet, um die Prozessintegrität und Ausbeute zu erhalten. ONTRAK Kiyo 45 bietet auch eine fortschrittliche Plasmaquellentechnologie, die eine breite Palette von Leistungsstufen und Prozessrezeptflexibilität erzeugt. Es ermöglicht das gleichzeitige Ätzen und Aschen ohne Substratschäden und bietet ultradünnes Folienätzen und Abscheiden sowie Richtungs- und anisotropes Ätzen. Das Gerät ist zudem mit einem robusten Vakuumsystem ausgestattet, das eine schnelle Evakuierung und optimierte Prozesszeiten ermöglicht. LAM RESEARCH Kiyo 45 verfügt über ein hohes Maß an Automatisierung und Bedienung. Es bietet eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) und umfassende Datenverwaltungsfunktionen. Es bietet erweiterte Prozessüberwachung und -verfolgung sowie detaillierte Rezeptrückruf- und Wiederholbarkeit. In Verbindung mit einem kompatiblen ONTRAK Prozesskit bietet Kiyo 45 eine komplette Ätz- und Aschelösung. Dazu gehören ein Netzteil, eine Gasfördereinheit, eine visuelle Maschine, ein HF-Werkzeug, ein Elektronikschrank und zusätzliches Zubehör. Mit seiner leistungsstarken Kombination aus Hard- und Software kann LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 dünne Filme ätzen und ablegen, um überlegene Ergebnisse zu erzielen.
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