Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9315260 zu verkaufen
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LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 ist ein Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um Präzisionsleistung für die Verarbeitung von Hochtemperatursubstraten zu bieten. Diese Ausrüstung wird in der Halbleiterindustrie verwendet, um Photolack aus einer Vielzahl von Wafern und Substraten zu ätzen und zu entfernen. ONTRAK Kiyo 45 verwertet eine Eigentumsmehrraumgasverbreitungsraumtechnologie zusammen mit einem Hopräzisionsgasfeedmechanismus, um den Ätzenprozess besser zu kontrollieren. LAM RESEARCH Die Kiyo 45′s Gasdiffusionskammer wurde speziell entwickelt, um die Gasauflösung und Gleichmäßigkeit bei Ätzprozessen zu maximieren und so eine präzise Steuerung der Zielätzraten zu ermöglichen. Die geringe Größe der Kammer erlaubt auch eine präzise Steuerung der Ätzrate bei hohen Temperaturen. Diese hohe Temperaturfähigkeit eignet sich zum Ätzen von High-K-Dielektrikum wie Hafniumdioxid, Aluminiumoxid oder Siliziumoxynitrid-Schichten, die Ätztemperaturen über 650℃ erfordern. Kiyo 45 verfügt außerdem über eine präzise Temperaturregelung, die auf +/- 1℃ eingestellt werden kann und eine genaue Temperaturstabilität beim Ätzen bietet. Das System verfügt über eine integrierte Waschstation, die den Prozessrückstand während des Ätzzyklus weiter reduziert. Die neuesten Versionen von LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 bieten auch vollautomatische Ätzzyklen für eine präzise Substratverarbeitung. Die im ONTRAK Kiyo 45 Ätzer eingesetzten Ätzgase sind je nach geätztem Material typischerweise CF4, CHF3, O2 oder ArF. Ein optionaler Fernmonitor des Geräts ist verfügbar, mit dem Benutzer von jedem webfähigen Gerät aus auf eine breite Palette von Maschinenrezepten und Betriebsdaten zugreifen können. Insgesamt ist LAM RESEARCH Kiyo 45 Ätzer/Ascher in der Lage, präzise Substratverarbeitung, präzise Temperaturregelung und fortschrittliche Ätzsteuerung, die ideal für Hochtemperatur-Substratanwendungen ist. Mit automatisierten Ätzzyklen und der Möglichkeit, auf eine Vielzahl von Rezepten und Betriebsdaten aus der Ferne zuzugreifen, ist es ein effizientes Werkzeug zum Ätzen und Aschen von Photolackmaterialien.
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