Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9375193 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 ist ein leistungsstarker Ätzer/Ascher für Substrate. Es ist als Einzelwafer-Werkzeug konzipiert, das präzise und präzise Ätz- und Ascheprozesse bei der routinemäßigen Herstellung von Wafern ermöglicht. Es ist mit einer hocheffizienten Dual-Source, Multi-Zone-Hochfrequenz (RF) -Quelle ausgestattet, die gleichzeitiges, Niedertemperaturaschen und Hochtemperaturätzen ermöglicht. Dies ermöglicht eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit über alle lithographischen Prozesse hinweg. Das Werkzeug bietet auch eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit des Musters auf dem Wafer über eine Vielzahl von Substraten. ONTRAK Kiyo 45 verfügt über eine ausgeklügelte Plasmaprozesssteuerung, die eine präzise Abstimmung und Gleichmäßigkeit über den Wafer ermöglicht. Es arbeitet mit einem fortschrittlichen Verschlusssystem, das die Prozesssteuerung verbessert und eine effiziente Waferübertragung ermöglicht. Das Werkzeug verfügt außerdem über ein optisches Emissionsspektrometer (OES), das eine Echtzeit-Überwachung von Plasmaparametern ermöglicht und eine Echtzeit-Abstimmung der Ätz- und Ascheprozesse ermöglicht. LAM RESEARCH Kiyo 45 ist aus Edelstahl und Aluminiumlegierungen gefertigt und verfügt über eine hocheffiziente Kühleinheit, die niedrige Temperaturen beim Ätzen und Aschen ermöglicht. Das Tool verwendet die neueste Hochleistungs-Turbo-Pumpe Vakuum-Technologie mit ausgezeichneten Pumpraten und niedrigen Geräuschpegeln. Es verfügt auch über eine 3-Bar-Steckdose HF-Stromversorgung und eine separate, variable Frequenz, niederfrequente Stromversorgung. Kiyo 45 verfügt über eine PC-basierte Steuerungsmaschine mit moderner GUI, die eine Fernsteuerung und -überwachung ermöglicht. Das Werkzeug liefert Prozessparameter wie Kammerdruck, HF-Leistung, Gasströme und Temperaturen. Es verfügt auch über erweiterte Überwachungs- und Diagnosefunktionen sowie Asset-Sicherheitsalarme. LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 ist auf optimale Produktivität und Wiederholbarkeit für Ätz- und Ascheprozesse ausgelegt. Es ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug für jede Lithographieanwendung. Mit seiner robusten Konstruktion und modernster Technologie kann er auch bei anspruchsvolleren Materialien optimale Ergebnisse liefern.