Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9379095 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 ist ein gaußiges Ascher/Ätzwerkzeug, das fortschrittliche Ätz- und Ascheprozesse in einer Ausrüstung kombiniert. Es ist entworfen, um kleine durch mittelgroße Substrate mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit zu ätzen und zu aschen. Das System ist mit erweiterter Quellsteuerung, Unterstützung für globale Prozesse und einer Vielzahl weiterer Funktionen ausgestattet. Der LAMONTRAK Kiyo 45 verfügt über eine Gaußsche Plasmaquelle, die einstellbare Leistung, Druck und Dichte liefert, um einheitliche Tiefe, Seitenwand und obere Profilätz- und Aschearbeiten zu erzeugen. Die Einheit ist voll programmierbar für Prozessstandardisierung und verbesserte Substratausbeute. LAM RESEARCH Kiyo 45 ist auch mit einer automatischen Druckregelung (APC) für kontrolliertes Ätzen und Aschen und einer Abgasströmungsstruktur (EGFS) ausgestattet, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. Kiyo 45 verfügt auch über eine Reaktionskammer für eine gleichmäßige Gasverteilung, die wiederholbare Ätz- und Ascheergebnisse auch auf Substraten mit komplexen Geometrien gewährleistet. Darüber hinaus verwendet die Maschine fortschrittliche Gasfülltechniken und ein Wafer-Mapping-Tool, um Prozessvariationen zu erkennen und einen konsistenten globalen Prozess über verschiedene Produkte hinweg sicherzustellen. LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 ist auch für einfache Wartung konzipiert. Die Kammer ist mit einem Hebemechanismus ausgestattet, um den schnellen Waferaustausch zu erleichtern, während das Gerät selbst über eine Touchscreen-Schnittstelle verfügt, um schnelle und einfache Prozessparameteränderungen zu ermöglichen. Das Modell verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Erkennungssuite für schnelle Prozessbehebung, integrierte Prozessüberwachung und Netzwerkfunktionen. Insgesamt ist ONTRAK Kiyo 45 eine fortschrittliche Ätz- und Ascheausrüstung, die einen vollständigen und einheitlichen Ätz- und Ascheprozess auf kleinen bis mittelgroßen Substraten ermöglicht. Es verfügt über eine vollständige Palette von erweiterten Funktionen, um Prozessstabilität und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, sowie eine einfach zu bedienende Schnittstelle zur Prozessanpassung und -verfolgung.