Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK TCP 9400 SE #9134003 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9134003
Wafergröße: 4"-12"
Etcher, 4"-12" Oxide Flat wafers ESC chuck (1) Chamber GAS NO GAS NAME MAKER MODEL FULL SCALE 1 02 TYLAN FC-2950MEP5 200SCCM 2 02 TYLAN FC-2950MEP5 10SCCM 3 N2 TYLAN FC-2950MEP5 10SCCM 4 SF6 TYLAN FC-2950MEP5 50SCCM 5 HBR TYLAN FC-2950MEP5 200SCCM 6 CF4 AERA FC-D980C 500SCCM 7 CL2 AERA FC-D980C 200SCCM 8 70%HE+30%O2 AERA FC-D980C 20SCCM 9 HE UNITY 8100Seris 50SCCM BOARD BOX: CPU ADIO#5 ADIO#7 ADIO#8 ADIO#9 ADIO#11 ADIO#13 SERIAL PRESSURE: LOCATION MAKE MODEL CHAMBER CM MKS TURNEL MKS 625A11TDE FORLINE MKS 625A11TDE BACK HE TYLAN CMLA-21 RF GENERATOR MACHER TOP AE RFDS 1250 R-KIT BOTTOM AE RFG 1250 MINI PUMP: SEIKO SEIKI H2002C SEIKO SEIKI STP-H200C PRESSURE CONTROL: VAT 65048-PH52-ABU2 VAT PM-7 FUNCTION CHECK: INDEX MOVING SHUTTLE MOVING ARM MOVING PRESSER CONTROL GAS FLOW TEST GAP MOVING RF ON/OFF ESC ON/OFF AUTO RUNING TEST.
LAM RESEARCH/ONTRAK TCP 9400 SE ist ein halbautomatischer Ätzer und Ascher. Es ist eine Einzelwafer-Ausrüstung, die für eine breite Palette von Ätz-, Asche- und Abscheideprozessen entwickelt wurde. Es verfügt über zwei Gaskammern mit jeweils unabhängiger Strömungs- und Temperaturregelung. Es verfügt auch über ein automatisches Substratzentriersystem für eine präzise Wafer-Positionierung und die Fähigkeit, sowohl nasse als auch trockene Prozesse in einem einzigen Lauf durchzuführen. Das Gerät ist mit einer leistungsstarken PC-basierten Steuerungsmaschine und einfach zu bedienenden Windows™-Style-Software-Schnittstellen ausgestattet. Die programmierbaren Prozessrezepte bieten Prozessaufbaumöglichkeiten, Datenspeicherung für bis zu 20 benutzerdefinierte Prozesse sowie flexible Prozesssteuerung mit einer großen Auswahl an Parametern. Das Tool enthält auch ein Monitorstreifendiagramm, mit dem der Benutzer Prozessdaten schnell anzeigen und Probleme identifizieren kann. ONTRAK TCP 9400 SE kann eine breite Palette von Substraten verarbeiten, einschließlich Siliziumscheiben, Photolithographiemasken, Quarz und Keramik. Die Waferkammern können bis zu 400mm, 200mm und 150mm runde Substrate aufnehmen. Die Anlage bietet auch eine Vielzahl von Ätz- und Aschereaktionen für Aluminium, Polysilizium, Titan, Silizium und andere Materialien. Das Modell beinhaltet eine integrierte Sicherheitsverriegelung für maximalen Schutz. Es enthält auch ein Endpoint Detection Subsystem (EDS), das dem Bediener hilft, Substratschäden zu überwachen, sowie ein Fast Cooling Subsystem (FCS), das hilft, thermische Schäden während des Ätzprozesses zu verhindern. Das System bietet hervorragende Leistung für eine breite Palette von Ätz- und Ascheanwendungen. Seine leistungsstarke Steuerung und Software machen die automatisierte Verarbeitung schnell und einfach. Das Gerät bietet zudem hervorragende Sicherheitsmerkmale und Schutz sowohl für den Bediener als auch für die Substrate. All diese Funktionen machen LAM RESEARCH TCP 9400 SE zu einer ausgezeichneten Wahl für Prozessingenieure.
Es liegen noch keine Bewertungen vor