Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK TCP 9400 SE #9203958 zu verkaufen

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ID: 9203958
Wafergröße: 8"
Etcher, 8" With cassette to cassette transport Model 9408 includes Rainbow platform Ceramic free chamber with waferless auto clean (WAC) Single chamber stand-alone version LEYBOLD HERAEUS TURBOVAC 1000C Turbo-molecular vacuum pump Inductively coupled source (TCP) ESC 9400 Environmental requirements: Temperature: 22 ± 2°C Humidity: <50 % Vibration sensitivity: Slight Thermal output (BTU/Hr): Carrier by water: 9400 Carrier by exhaust: 8400 Dispersed to environment: 20,000 Total output: 38,000 RF Generator: Carrier by exhaust: 5000 Dispersed to environment: 3000 Total output: 8000 Power requirements: 208 VAC, 50/60Hz, 3 Phase, 80/63Amps (5) Conductors Type: Wye Receptacle required: Hardwired CE Marked.
LAM RESEARCH/ONTRAK TCP 9400 SE ist ein vollautomatischer, einseitiger Ätzer/Ascher für die Halbleiterwaferbearbeitung. Das Gerät wurde entwickelt, um eine hervorragende Verarbeitungssteuerung, hohe Produktionserträge und eine breite Palette von Ätz- und Ascheanwendungen zu bieten. Dieser Ätzer besteht aus einer Hauptkammer und einer beheizten, druckgesteuerten Plasmaquelle sowie einer unabhängigen Substratvorspannung, Temperatur- und Druckregelung. Der Ätzer/Ascher ist außerdem mit einem Präzisionspartikel-optischen Mikroskop ausgestattet, mit dem die Oberfläche des Substrats während der Verarbeitung überwacht wird. Die Kammerkapazität beträgt 200 mm (8 „) Wafer oder 90 mm (3,5“) volle Wafer. ONTRAK TCP 9400 SE verfügt über ein sehr vielseitiges, multifunktionales Prozessmodul, das eine hervorragende Flexibilität, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Genauigkeit bietet. Das ausgeklügelte Steuerungssystem ermöglicht das präzise Ätzen und Veraschen sowohl unaktiver Metalle als auch reaktiver Halbleitermaterialien in einem Werkzeug. Die Einheit ist in der Lage, eine Vielzahl von Oberflächen zu ätzen und zu aschen, von extrem dünnen Halbleiterbauelementen bis hin zu dicken Strukturen. Darüber hinaus ist die Einheit sowohl für Hochvakuum-Plasmaätzen/-aschen als auch für Niederdruck-Plasmaätzen/-aschen ausgelegt. Der Ätzer/Ascher ist mit präziser Prozesssteuerung und ausgezeichneter Stabilität ausgelegt, so dass der Prozess vollständig optimiert werden kann. Der präzise Manipulator ermöglicht eine präzise Abtastung des Wafers beim Ätzen oder Aschen und eine genaue Überwachung der tatsächlichen Ätzraten. Der Ätzer/Ascher ist auch in der Lage, eine wiederholt präzise Grabenbildung in Halbleitersubstraten zu erzielen. LAM RESEARCH TCP 9400 SE bietet durch seine Hochgeschwindigkeits-Mehrfachprozess- und In-situ-Reinigungsfähigkeit hervorragenden Schutz vor Waferschäden. Der präzise Manipulator gewährleistet auch eine gleichmäßige Verarbeitung kritischer Strukturen und einen genauen thermischen Kontakt über die Kammer. Darüber hinaus ermöglicht der hohe Wirkungsgrad der integrierten Laserbeugungsdiagnostik eine präzise Prozesssteuerung und -analyse bei gleichzeitiger Beseitigung von Staubpartikelverunreinigungen. Insgesamt ist TCP 9400 SE ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher, der präzises und zuverlässiges Ätzen und Aschen für eine breite Palette von Halbleiter-Wafer-Strukturen bietet. Das Gerät ist für eine präzise Steuerung von Ätz- und Ascheprozessen sowie wiederholbare Leistung und hervorragende Ausbeute ausgelegt. Darüber hinaus ist es auch für die Hochvakuum- und Niederdruckplasmabearbeitung konzipiert, was es zu einer idealen Lösung für Halbleiteranwendungen macht.
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