Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 4400B #9169589 zu verkaufen

ID: 9169589
Wafergröße: 8"
Plasma etcher, 8".
LAM RESEARCH Rainbow 4400B ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschemaschine, die für den Einsatz in der Backend-Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist ein Einkammer-System, das induktiv gekoppelte Plasma (ICP) Ätz- und Ofen-basierte naßchemische Aschefähigkeiten in einem einzigen Modul kombiniert. LAM RESEARCH RAINBOW 4400 B ist für Produktionsumgebungen konzipiert und verfügt über eine automatisierte Architektur mit hohem Durchsatz, die optimale Zuverlässigkeit und Einheitlichkeit bietet. Es ist hocheffizient und bietet eine hervorragende Leistung bei einer Vielzahl von Ätz- und Ascheanwendungen. Rainbow 4400B ist in einer robusten, zuverlässigen Konfiguration aufgebaut und nutzt branchenerprobte Komponenten in Kombination mit einer innovativen Architektur. Die Prozesskammer der Einheit ist für hohe Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit ausgelegt und kann eine breite Palette von Wafergrößen von 2- bis 8-Zoll und darüber hinaus unterstützen. Die Kammer ist in der Lage, gleichmäßige ICP-Ätz- und naßchemische Ascheschichten in Sekundenschnelle auf einem einzigen Wafer abzuscheiden. Zusätzlich ist die Kammer mit einem vorgespannten Hochfrequenz (RF) -Vorspannungsgenerator ausgebildet, der eine präzise Steuerung und Hochdurchsatzverarbeitung ermöglicht. RAINBOW 4400 B ist auch mit einer Reihe von erweiterten Steuerungsfunktionen ausgestattet. Programmierbare Funktionen ermöglichen es Benutzern, die Prozessrezepte einfach anzupassen und zu optimieren. Automatisierte Prozesssteuerung ermöglicht es der Maschine, die Gleichmäßigkeit über eine Charge von Wafern ohne manuellen Eingriff aufrechtzuerhalten. Offene Architektur-Software ermöglicht volle Kompatibilität mit bestehenden und neuen Wafer-Designs. Das Tool enthält auch eine leistungsstarke Benutzeroberfläche und eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) für einfaches Debugging, Konfiguration und Prozessüberwachung. LAM RESEARCH Rainbow 4400B verfügt auch über eine geringe Umweltbelastung, mit einer breiten Palette von Fähigkeiten entwickelt, um gefährliche Emissionen zu minimieren und Abfälle zu reduzieren. Diese Anlage wurde mit einem fortschrittlichen Wärmesteuerungsmodell entwickelt, um sicherzustellen, dass die Prozesstemperatur gleichmäßig und stabil bleibt. Die Ausrüstung erhöht auch die Ausbeute durch den Einsatz der Closed-Loop Terahertz Pulse Etch (CLTPE) -Technologie, die in der Lage ist, einheitliche Ätz- und Glühergebnisse zu erzielen. Insgesamt ist LAM RESEARCH RAINBOW 4400 B ein fortschrittliches Ätz-/Aschersystem, das fortschrittliches, zuverlässiges und effizientes Design mit geringer Umweltbelastung kombiniert. Die einheitliche Prozesskammer, die automatisierte Prozesssteuerung und die CLTPE-Technologie machen es zu einer idealen Wahl für Backend-Halbleiterherstellungen.
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