Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 4420 #293821536 zu verkaufen

LAM 4420 Automatic Plasma Asher/Etcher ist ein vollautomatisches Werkzeug, das für Anwendungen zur plasmabasierten Oberflächenbearbeitung mit hohem Volumen bestimmt ist. Dieses Gerät kombiniert die Fähigkeit eines Aschers und eines Ätzers zu einer Plattform für Komfort und Kosteneinsparungen. 4420 nutzt eine leistungsstarke induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP), um eine extrem schnelle und effiziente Verarbeitungsumgebung mit niedrigen Betriebskosten zu schaffen. LAM 4420 hat einen modularen Aufbau, der eine einfache Anpassung für verschiedene Anwendungen ermöglicht. Dazu gehört die Wahl einer Diffusions- oder Parallelquelle im Bereich von 150 bis 800 Watt Leistung. Das System enthält auch eine 20-Zoll-Vakuumkammer mit einer horizontalen und vertikalen variablen Neigungsoption. Die Kammer ist mit einer bordeigenen O-Ring-Dichtung und Gassteuereinheit ausgestattet, um einen konsistenten Vakuum- und Plasmaprozess aufrechtzuerhalten. 4420 ist mit einer Verarbeitungssteuerungsmaschine ausgestattet, die Benutzern die Möglichkeit gibt, den Gasfluss, den Kammerdruck und die HF-Leistung mit Genauigkeit und Präzision zu steuern. Zusätzlich zu seinen effizienten Verarbeitungsfunktionen bietet LAM 4420 auch eine benutzerfreundliche Oberfläche, die für unterschiedliche Prozesskomplexität ausgelegt ist. Diese Plattform verfügt über intuitive, grafische Benutzeroberflächen, mit denen Anwender die Ätzparameter für jeden Prozessschritt anpassen und die Ergebnisse einfach anzeigen können. 4420 ist auch kompatibel mit verschiedenen kompatiblen Softwarepaketen wie SEMVision, LamView und SPX Tool bieten Benutzern Zugriff auf erweiterte Steuerungs-, Datenerfassungs- und Analysefunktionen sowie Prozessvalidierungsfunktionen. Die Parallel- und Diffusionsquellen des LAM 4420 bieten eine zuverlässige, berührungslose Plasmaquelle zum Ätzen und reaktiven Ionenätzen (RIE), um die Eigenschaften der Oberfläche unabhängig zu steuern. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, den Ätzprozess bis auf wenige Nanometer genau zu steuern. Darüber hinaus verfügt 4420 über mehrere Gaskästen, so dass Benutzer zu einer Vielzahl von Prozessgasen bewegen und verwenden bis zu drei separate Gasmischungen mit minimierten Ausfallzeiten. LAM 4420 wurde erfolgreich in vielen Labor- und Produktionsanwendungen eingesetzt, von Solarzellen und Halbleitergeräteätzen bis hin zu Lithographieanwendungen. Diese flexible Fähigkeit ermöglicht es Anwendern, die optimale Mischung aus Ätzraten und Selektivität zu erreichen. Darüber hinaus verfügt diese benutzerfreundliche Plattform über zahlreiche Sicherheitsfunktionen, darunter ein integriertes Interlock-Asset, ein Windows-basiertes Benutzerschutzmodell und sicherheitsoptimierte Zelldesigns.