Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 4420 #63700 zu verkaufen

ID: 63700
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 1996
Dry oxide etcher, 6" Classic OS Hine Indexers Clamped Optical Endpoint On Board AE RFG 1250 RF Generator RF Mini Match 8 Stick Orbital Gas Box CE Marked.
LAM RESEARCH Rainbow 4420 ist ein High-End-Plasmaätzer, der eine präzise und wiederholbare Kontrolle von Profil und Ätzrate über ein breites Prozessfenster ermöglicht. Das Gerät ist ideal für die Herstellung von Hochleistungs-mikroelektronischen Substraten wie mehrstufigen Leiterbahnen, MEMS und verschiedenen anderen Anwendungen, die ein Hochdurchsatz-Plasmaätzen erfordern. Rainbow 4420 verwendet eine großflächige, flächenüberlappende Ätzkammer, die auf einem geschlossenen Atmosphärendruck (APC), induktionsgetriebenen endpunktgesteuerten RF (IDEP) -Plasma-Quellen, fortgeschrittenen Ätzstationen, Wafer-Handling und Automatisierungslösungen basiert. Es verfügt über fortschrittliche In-situ-Reinigungstechnologie sowie eine Trocken-/Nass-/Mischätzfähigkeit. Zusätzlich zu einem x-y Scannertypdrucktiegel verwendet das System einen schnelllaufenden in - situ Oberfläche, die Einheit (ISMUS) kontrolliert, der Schwankungen in den Ätzenparametern entdeckt, wie Plasma ätzen Rate, Gleichförmigkeit und Profilkontrolle. Diese Maschine umfasst auch die neueste Hochleistungs-Ätztechnologie, wodurch die Ätzzeit für die 3D-Oberflächenstrukturierung reduziert wird. Die robuste Ausführung des Werkzeugs sorgt dafür, dass seine Leistung durch korrosive Chemikalien nicht beeinträchtigt wird und dass es bei Prozesstemperaturen bis zu 300 Grad Celsius (572 Grad Fahrenheit) arbeiten kann. Die Anlage produziert hochwertige, hohe Geschwindigkeit, Nanometer-Genauigkeit lineare und kreisförmige Ätzung, mit ausgezeichneter Ätzrate Gleichförmigkeit und Wiederholbarkeit über den Ätzbereich. Das Modell ist mit Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um eine sichere Arbeitsumgebung zu gewährleisten und strenge Sicherheitsvorschriften zu erfüllen. LAM RESEARCH Rainbow 4420 unterstützt verschiedene Ätzchemien, darunter CF4, CHF3, C2F6 und SF6, sowie andere Photoresist- und polymerbasierte Materialien. Rainbow 4420 ermöglicht es dem Anwender, aus einer Vielzahl von Ätzoptionen und Chemikalien auszuwählen und gleichzeitig einen zuverlässigen und leistungsstarken Ätzprozess bereitzustellen. Der Anwender hat auch die Möglichkeit, eine Vielzahl von Verarbeitungsparametern wie Temperatur, Druck und Durchfluss sowie die Fähigkeit, Wartungsoperationen durchzuführen, auszuwählen. LAM RESEARCH Rainbow 4420 bietet Anwendern einen effizienten und zuverlässigen Ätzprozess, um hochgenaue, mehrstufige Strukturen mit hervorragenden Oberflächeneigenschaften und ausgezeichneter Ätzqualität herzustellen. Mit seiner robusten Konstruktion, den Sicherheitsmerkmalen sowie der robusten Prozess- und Substrathandhabung eignet sich das Gerät für eine breite Palette von mikroelektronischen Hochleistungsanwendungen.
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