Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9151548 zu verkaufen
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ID: 9151548
Poly etcher, 8"
Main body
RF Unit
Power box
Clamp
OEM-6A RF Generator
CMH-11SO2 Process manometer
CMH-11SO2 Reference manometer
CMLA-21 He Pressure manometer
UPC-1360 He UPC
839-013522-001 Pressure control valve
AC-2 Controller
MFC:
Channel / Gases / Scale / Connection size
1 / HE / 300 / 1/4" VAC Male
2 / AR / 300 / 1/4" VAC Male
3 / O2 / 2500 / 1/4" VAC Male
4 / C2F6 / 350 / 1/4" VAC Male
5 / SF6 / 250 / 1/4" VAC Male
6 / HBR / 200 / 1/4" VAC Male
7 / CL2 / 300 / 1/4" VAC Male
8 / NF3 / 500 / 1/4" VAC Male
PCW:
Qty / Unit / Connection size
(4) / Main body / 3/8" SWG Male
(2) / RF Unit / 3/8" SWG Male
Vacuum:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body (Chamber) / ISO 80
(1) / Main body (L/L) / NW-60
CDA:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body / QC6 Connector
Power supply:
Power box: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
Main body: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
RF Unit: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz.
LAM RESEARCH Rainbow 4420 ist eine hochmoderne Ätz-/Aschermaschine, die Präzisionsleistung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen liefert. Das Hochleistungs-Horizontal-basierte System bietet schnelle und genaue Ätzraten und bietet die perfekte Plattform für die anspruchsvollsten Ätz- und Veraschungsanwendungen. Rainbow 4420 kann eine Reihe von Wafergrößen von 200mm bis 8-Zoll-Wafern verarbeiten und ist somit für alle Arten von Waferprozessen geeignet. Es wird mit einem geschlossenen Zyklus Ultra-Hochvakuum (UHV) Prozess Sputterkammer gebaut, bietet einen sehr zuverlässigen und wiederholbaren Ätz-/Aschezyklus. LAM RESEARCH Rainbow 4420 kann bis zu drei Gaseingänge gleichzeitig verarbeiten; bietet eine Auswahl an Ätz- oder Ascheprozessen für maximale Flexibilität. Rainbow 4420 verfügt über einen hochzuverlässigen, hochfrequenzgesteuerten Prozess. Dies gewährleistet schnelle und genaue Ätzraten für eine verbesserte Leistung. Das Gerät ist mit modernster Endpunktdetektionsfähigkeit ausgestattet, die die Steuerung des Ätzprozesses von Anfang bis Ende ermöglicht. LAM RESEARCH Rainbow 4420 bietet eine breite Palette von Ätz- und Ascheprozessgasen wie Sauerstoff, Tetrafluorkohlenstoff und Argon. LAM RESEARCH erweiterte Prozesssteuerungsoptionen, wie Profil- und Drucksteuerungsoptionen, bieten eine hervorragende Prozesswiederholbarkeit. Die Profilsteuerungsfunktion ist ein rezeptbasierter Prozess, der die Kontrolle der Abscheidungsdicke ermöglicht, während die Drucksteuerungsoption die HF-Energie verwendet, um die Energie der Partikel zu regulieren, eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit zwischen Wafern gewährleistet. Rainbow 4420 wurde mit Blick auf die Sicherheit entwickelt, einschließlich einer benutzerfreundlichen Touchscreen-LCD-Schnittstelle und Sicherheitsfunktionen wie Sicherheitsverriegelungen und automatische Gasabschaltungen. Es beinhaltet auch eine Fehlerprotokollmaschine zur automatisierten Prozessprotokollierung, die eine maximale Prozesskontrolle und Beseitigung potenzieller Prozessfehler gewährleistet. LAM RESEARCH Rainbow 4420 ist das perfekte Werkzeug für anspruchsvolle Halbleiterätz-/Aschebedürfnisse. Mit schnellen, genauen und wiederholbaren Ergebnissen ist das Asset ideal, um konstante Produkterträge und höchste Qualität zu gewährleisten.
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