Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 4520i #293595654 zu verkaufen

LAM RESEARCH Rainbow 4520i ist eine zuverlässige und fortschrittliche Etcher/Asher-Plattform. Es ist mit einer einzelnen Wafer-Verarbeitungsfähigkeit und mehreren Ätz-/Stripping-Quellkonfigurationen ausgestattet, was es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl komplexer Anwendungen macht. Es ist in der Lage, Nanometerätzer und Ascher herzustellen, ideal für die Entwicklung und Herstellung von Halbleiterprodukten. Die 4520i nutzt eine Niederdruck-induktiv gekoppelte Plasmaquelle mit zylindrischem Quarzduschkopf sowie eine Hochfrequenz-Plasmaquelle. Diese Dual-Source-Konfiguration sorgt für Gleichmäßigkeit und spezifische Ätzselektivität über einen weiten Prozessbereich. Das System umfasst auch eine Quarzkammer, die eine geringe Nutzung von Prozessgasen ermöglicht, so dass das System mit einer reduzierten CO2-Bilanz arbeiten kann. Rainbow 4520i verfügt über eine extrem kompakte Stellfläche und eine einfach zu bedienende Benutzeroberfläche, die eine effiziente Integration in jede Produktionsumgebung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das System eine außergewöhnliche Reinraumumumgebung der Level-1 Klasse 100, die effizientere Prozesse ermöglicht und gleichzeitig Kontaminationen und Störsignale minimiert. Der 4520i verfügt zudem über eine starke Kombination aus Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen, die eine Mehrwertflexibilität und -funktionen bieten. Dazu gehören die Aufnahme einer nockengefüllten Waferstufe, integrierte HF-Steuerungssysteme, komplexe Kammersteuerung, Wafer-Mapping und Prozessverlauf zur Bewältigung räumlicher und zeitlicher Ungleichmäßigkeiten. Diese Präzisionsfähigkeit bietet eine perfekte Balance zwischen Ätzprozessleistung und Automatisierung. Die 4520i umfasst auch eine Reihe von erweiterten Fehlerüberwachungs- und Diagnosefunktionen einschließlich Elektrodenkettendiagnose und Elekthrowizing-Überwachung. Diese Funktionen bieten ein umfangreiches Toolset für Prozesssteuerung, Optimierung und Diagnose. LAM RESEARCH Rainbow 4520i ist eine optimale Lösung für jede Ätz- oder Ascheranwendung. Es verfügt über eine robuste Reihe von Funktionen, Prozesssteuerungsfunktionen und Diagnosefunktionen, so dass es effizient und präzise für komplexe Anwendungen verwendet werden kann. Seine niederdruck-, induktiv gekoppelte Plasmakonfiguration und sein fortschrittliches Feature-Set machen es zu einer idealen Wahl für eine effiziente, präzise und kostengünstige Ätz-/Aschenbearbeitung.