Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow 9600 #9389854 zu verkaufen

LAM RESEARCH Rainbow 9600 ist ein Ätzer/Ascher, der eine leistungsstarke Hochfrequenz-Hochfrequenz-Plasmaquelle verwendet. Rainbow 9600 hat eine Plasmaquellenleistung von bis zu 200 Watt und ein 50 Kubikfuß Arbeitsvolumen, das Substrate von bis zu 400 mm x 300 mm verarbeiten kann. Sein einzigartiges Design ermöglicht die Ausführung einer Vielzahl von Prozessgeometrien, wie Ätzen und Reinigen auf demselben Substrat in einem Rezept, ohne die Wiederholbarkeit des Prozesses oder den Substratdurchsatz zu beeinträchtigen. Dieser fortschrittliche Ätzer/Ascher verfügt über ein integriertes Batch-Prozessmerkmal, das die Substrataufbereitung und Plasmabildung für wiederholbare Prozesse und überlegene Substratausbeute automatisiert. LAM RESEARCH Rainbow 9600 verfügt über eine Load-Lock-Ausrüstung, die Substrate bei verschiedenen Temperaturen und atmosphärischen Bedingungen speichern kann, um sicherzustellen, dass die Prozessbedingungen im gesamten Verlauf eines Chargenprozesses aufrechterhalten werden. Darüber hinaus minimiert die absolute Druckregelung des Systems Prozessschwankungen, was das Risiko von Endproduktausbeuten und Qualitätsproblemen erheblich reduziert. Das Gerät verfügt auch über einen proprietären HF (Radio Frequency) Generator, der eine stabile und konsistente Ätz- und Reinigungsleistung gewährleistet. Fokussierte Ionen innerhalb des Plasmas haften an der Oberfläche des Substrats, während das Plasma mit programmierbaren Parametern wie Gasdurchfluss gleichmäßig und hoch einstellbar ist. Regenbogen 9600 Ätzer/Ascher ist mit Blick auf Sicherheit und Umweltschutz gebaut. Es verfügt über eine Einflansch-Abgasmaschine, die einen effizienten Transport giftiger Gase aus dem Arbeitsraum ermöglicht und gefährliche Emissionen reduziert. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine Auswahl von sieben Standardgasen, die alle mit NFPA-Zertifizierungen und Umweltvorschriften kompatibel sind. Insgesamt bietet LAM RESEARCH Rainbow 9600 Ätzer/Ascher durch seine hochfrequente HF (Radio Frequency) -Plasmaquelle und umfassende Prozessparameteranpassung hervorragende Substratleistung und -durchsatz. Seine Sicherheits- und Umweltschutzeigenschaften machen es zu einem idealen, zuverlässigen Werkzeug für die Herstellung hochwertiger Substrate.