Gebraucht LAM RESEARCH Rainbow #9118482 zu verkaufen

LAM RESEARCH Rainbow ist eine Ätz-/Ascheausrüstung für den Prozess des Ätzens/Aschens in der Halbleiterherstellung. Es ist in der Lage, in einer Vielzahl von Chemikalien zu arbeiten, wie Trocken- und Nassätzen und Kombinationen davon, mit einer umfassenden Reihe von Prozessrezepten, die speziell zum Ätzen/Aschen sehr dünner Schichten von Merkmalen entwickelt wurden. Seine Eigenschaften umfassen die Verarbeitung bei niedriger Temperatur, um niedrige thermisch induzierte Spannungen, Gleichmäßigkeit in der Entfernungsrate und Maskenformgenauigkeit sowie fortschrittliche Sicherheitsmerkmale zu gewährleisten. Das System kann genau Ätzschichten aus Silizium (Si), Siliziumcarbid (SiC), Germanium (Ge) und anderen Halbleitermaterialien, die bei der Herstellung von MEMS, NEMS und VLSI-Bauelementen verwendet werden, ätzen. Die Einheit besteht aus verschiedenen Komponenten zum Präzisionsätzen/-aschen einschließlich einer Prozesskammer, Hochvakuumpumpsystemen, einer Kühlmittelmaschine, einem Prozesssteuergerät und einer optionalen Plasmaquelle für das Dampfphasenätzen. Die Prozesskammer ist ein hermetisch abgedichtetes Gehäuse mit einem Substrathalter, mit dem die Probe einer kontrollierten Umgebung ausgesetzt werden kann. Je nach Prozessanforderungen und Kammergröße kann es eine Vielzahl von Elektroden zum Aufsprühen von Ionen auf den Wafer enthalten. Hochvakuumpumpen sind so konzipiert, dass sie eine Niederdruckumgebung innerhalb der Prozesskammer aufrechterhalten. Das Kühlmittel wird verwendet, um die Temperatur der Prozesskammer während des Ätzens/Aschens zu senken, um sicherzustellen, dass die entstehende Wärme abgeführt wird. Das Prozesssteuermodell ermöglicht eine automatisierte Steuerung der Ätz-/Ashing-Prozessparameter sowie die Datenerfassung aller Prozessinformationen. Regenbogenätz-/Ascheausrüstung kann verwendet werden, um Schichten aus Silizium, Siliziumcarbid, Germanium und anderen Halbleitermaterialien mit extrem niedrigen thermisch induzierten Spannungen aufgrund der Niedertemperaturverarbeitungsfähigkeiten zu entfernen. Das System verfügt über hochpräzise Ätz-/Aschefunktionen, die eine gleichmäßige Abtragsgeschwindigkeit von Schichten mit hoher Maskenformgenauigkeit ermöglichen. Mit seiner umfassenden Rezeptur können Anwender den Prozess ganz einfach an ihre spezifischen Anwendungsanforderungen anpassen. Darüber hinaus bietet der Reaktor ein hohes Maß an Sicherheit, mit Sicherheitsverriegelungen, um zu verhindern, dass gefährliche Operationen auftreten. Das Gerät ist sowohl für Labor- als auch Produktionsumgebungen geeignet.