Gebraucht LAM RESEARCH SEZ 223 #293658158 zu verkaufen

LAM RESEARCH SEZ 223 ist ein Plasmaätzer und Ascher. Diese Maschine wurde entwickelt, um Halbleiterscheiben in einer kontrollierten Atmosphäre mit reaktivem Ionenätzen (RIE) und Metall Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) genau zu ätzen und zu reinigen. SEZ 223 verwendet eine hochdichte HF-Plasmaausrüstung, die ein ideales Medium für effiziente Ätz- und Reinigungsoperationen bietet. LAM RESEARCH SEZ 223 ist mit einer ICP (Inductively Coupled Plasma) -Quelle zur Verarbeitung ausgestattet, die aus vier individuell einstellbaren HF-Kanälen zur erhöhten Plasmakontrolle besteht. Dies ermöglicht genaue Ätzergebnisse mit verbesserten Ionenenergieverteilungen und verbesserter Gleichmäßigkeit in Waferoberflächen. Die ICP-Quelle kann bis zu 8.000 Watt Plasma mit einem Basisdruck von 10 mTorr erzeugen und kann innerhalb von 1 mTorr Soll-Ätzdruck und 10 kHz Soll-HF-Frequenz gehalten werden. SEZ 223 ist mit einem Gasfördersystem ausgestattet, das drei Gasleitungen zur präzisen Druckregelung, bis zu 5 Gasquellen und präzisen Gasverhältnissen verarbeiten kann, um die gewünschten Ätzergebnisse zu erzielen. Diese Einheit sorgt für genaue Abscheide- und Ätzraten und ermöglicht eine präzise Kontrolle des Ätzprozesses. Die anspruchsvolle Wafer-Handling-Maschine von LAM RESEARCH SEZ 223 ist auf die Integration mit FOUP-Plattformen ausgelegt. Es ermöglicht das präzise Be- und Entladen, Orientieren und Drehen von Wafern bei hohen Geschwindigkeiten und bietet eine vollständige Prozessintegration mit den Prozessmodulen PECVD, RIE und CMP. Die Kammer von SEZ 223 ist so konzipiert, dass sie die niedrigsten Partikel- und Kammerbeladungsraten erzeugt, was niedrige Fehlerraten in den endverarbeiteten Wafern ermöglicht. Das Design ermöglicht auch eine effiziente Kühlung und Vakuumbildung für einen verbesserten Durchsatz. Insgesamt ist LAM RESEARCH SEZ 223 für das Ätzen und Aschen hoch optimiert. Die leistungsstarke ICP-Quelle, das präzise Gas-Lieferwerkzeug, das ausgeklügelte Wafer-Handling und die Kammer mit geringer Verschmutzung machen es ideal für die effiziente Verarbeitung von Halbleiterscheiben.