Gebraucht LAM RESEARCH SOSUL PES-2300 #293829871 zu verkaufen

LAM RESEARCH SOSUL PES-2300
ID: 293829871
Wafergröße: 8"
Etcher, 8".
LAM RESEARCH SOSUL PES-2300 ist eine fortschrittliche Plasmaätz-/Aschermaschine für präzise und hochdurchsatzreiche Halbleiterherstellungsprozesse. Als führender Anbieter von Waferbearbeitungsanlagen hat LAM RESEARCH das PES-2300 als vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für Ätz- und Reinigungsanwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt. Das PES-2300 nutzt eine ausgeklügelte Plasmabearbeitungstechnologie, um verschiedene Materialien mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit zu ätzen oder zu reinigen. Das System weist eine Dual-Source-Konfiguration auf, die es ermöglicht, sowohl Ionenätz- als auch reaktive Ionenätzprozesse gleichzeitig oder sequentiell durchzuführen. Diese Dual-Source-Fähigkeit ermöglicht es dem PES-2300, die hohen Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse zu erfüllen. Eines der Hauptmerkmale der PES-2300 ist die erweiterte Prozesskontrolle. Das Gerät ist mit einer hochkonfigurierbaren Prozesskammer ausgestattet, die auf verschiedene Anwendungen und Materialtypen zugeschnitten werden kann. Es umfasst auch Echtzeit-Überwachungs- und Feedback-Systeme, um eine konsistente Prozessleistung und hohe Erträge zu gewährleisten. Das PES-2300 ist in der Lage, eine breite Palette von Substratgrößen zu handhaben, von kleinen Stücken bis zu großen 300mm-Wafern, die häufig in der modernen Halbleiterherstellung verwendet werden. Die Maschine bietet ein hohes Maß an Flexibilität und Skalierbarkeit, wodurch sie sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für Serienumgebungen geeignet ist. Das Plasmaerzeugungswerkzeug des PES-2300 ist für hohe Plasmadichte und Gleichmäßigkeit ausgelegt. Die Anlage nutzt eine Kombination aus induktiv gekoppelten Plasma- (ICP) und kapazitiv gekoppelten Plasma- (CCP) -Quellen, um eine hohe Ätzrate und eine geringe Schädigung des Substrats zu erreichen. Das PES-2300 verfügt zudem über fortschrittliche Gasförder- und Prozessleitsysteme, die eine präzise Kontrolle der Ätz- und Reinigungsprozesse gewährleisten. Das Modell kann mit einer breiten Palette von Gaschemikalien konfiguriert werden, um verschiedenen Materialtypen und Prozessanforderungen gerecht zu werden. In Bezug auf Sicherheit und Zuverlässigkeit ist das PES-2300 mit modernsten Sicherheitsmerkmalen und Verriegelungen ausgestattet, um Bediener und Ausrüstung während des Betriebs zu schützen. Das Gerät enthält auch erweiterte Diagnose- und Überwachungsfunktionen, um potenzielle Probleme zu erkennen und zu vermeiden, bevor sie die Prozessleistung beeinträchtigen. Insgesamt ist SOSUL PES-2300 ein hochentwickeltes Plasmaätz-/Aschersystem, das außergewöhnliche Leistung, Flexibilität und Zuverlässigkeit für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seinen fortschrittlichen Prozesssteuerungsfähigkeiten, der Dual-Source-Konfiguration und der hohen Plasmadichte eignet sich das PES-2300 gut für anspruchsvolle Ätz- und Reinigungsprozesse in der Halbleiterindustrie.
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