Gebraucht LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9177741 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9177741
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Metal etcher system, 8"
Software version: Version E1.5-released
Software envision: 1.5 With light pen
Process METAL ETCH
Platform type: Rainbow stand-alone TCP 9600SE
Wafer shape: SNNF
Main chamber: TCP 9600SE
Enterance loadlock: Standard entrance loadlock chamber
Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ paddle
APM Chamber: (2) APM DI Nozzles, N2 splayer
Load station: Belt type shuttle
Indexers: 38A Hine indexers
Wafer alinger: Universal
Upper chamber body: TCP 9600se
Gap: 6CM Upper chamber fixed gap
Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
Turbo pump: ALCATEL 1300M with Controller
Pressure manometer: Millipore 100mT
Pressure controller:
VAT Gate valve
PM7 Pressure controller
End point: Detector heated port
With dual channels (261.8nm/ 703nm)
Matchers:
Auto tuner
T Matcher for upper
(8) Turn RF coil matcher for Bias
Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
Helium back side cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
ADIO Boards
Main board
ESC Power supply:
(16) Channel heater controllers
Chamber: Auto tune DSQ strip module
Funnel: 8″ Quartz funnel
Paddle: 8″ Heated Paddle
Hardware configuration:
Pressure controller: AC2 Pressure controller
Pressure manometer: MKS 10TORR
WVDS: Auto fill WVDS controller
WVDS Temperature controller: Auto temp controller
Cooling fan hinged DSQ stripper
With high flow cooling fan
Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
RF Tuner:
(8) Tunes
RF Coil matcher (DIP-PCB RF Tuner)
RF Generator on board: AE-1250
Heater controller: 853-015771-001
Spinner: 853-015759-102
DI Water nozzles:
Hot
Cold high water flow nozzles
Line 1: Gas CL2
Line 2: Gas BCL3
Line 3: Gas Ar
MFC Size: 200sccm (Unit 1660)
Line 4: Gas CF4
Line 5: Gas N2
Line 6: Gas O2
Line 7: Gas CF4
Line 8: Gas H20
EMCP*01 Part list:
(1) Transporter Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ Paddle
(1) Transporter APM Chamber: (2) APM DI nozzles, N2 splayer
(1) Transporter Wafer alinger universal
(1) Main chamber Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
(1) Main chamber Pressure manometer: Millipore 100mT
(1) Main chamber End point detector: Heated port with dual channels (261.8nm/ 703nm)
(1) Main chamber Matchers: Auto tuner/ T Matcher for upper, (8) Turn RF coil matcher for Bias
(2) Main chamber Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
(1) Main chamber Helium back side: Cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
(8) Main chamber ADIO Boards
(1) Main chamber Main board
(1) Main chamber ESC Power supply
(2) Main chamber (16) Channel heater controllers
(1) PLL Chamber Paddle: 8″ Heated paddle
(1) PLL Chamber WVDS Auto fill WVDS controller
(1) PLL Chamber Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
(1) PLL Chamber RF Generator on board: AE-1250
(1) PLL Chamber Heater controller: 853-015771-001
(1) PLL Chamber Spinner 853-015759-102
Currently warehoused
2000 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE ist ein Ätzer oder Ascher, der für den Einsatz im Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. Dieser Ätzer ist speziell für chemische, physikalische und abrasive Ätzprozesse konzipiert. Es ist ein vollautomatisches Nassätzwerkzeug mit einer programmierbaren Prozesskammer, einer Flüssigkeitszufuhranlage und einem äußerst zuverlässigen, langlebigen und robusten mechanischen System. Es hat eine 250mm x 250mm Bearbeitungskammer, die sowohl dielektrische als auch metallische Substrate verarbeiten kann. LAM RESEARCH TCP 9600SE ist mit einer einzigartigen Strahlduschliefereinheit ausgestattet, die überlegene Ätzselektivität und einheitliche Ätzergebnisse bietet. Es verfügt auch über eine integrierte, versiegelte Prozesskammer, die eine schnelle und effiziente Benetzung von Wafern und Decklippen ermöglicht. Die Prozesskammer wird auf kontrolliertem Druck, Temperatur und Feuchtigkeit gehalten, um überlegene Ätzergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ist TCP 9600 SE mit einer fortschrittlichen Steuerungsmaschine ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Ätzparameter während des gesamten Prozesses ermöglicht. Dieses Tool kann so programmiert werden, dass Daten von über 20 verschiedenen Prozessparametern gesammelt werden. Diese Daten können dann verwendet werden, um Ätzparameter sorgfältig zu überwachen und optimierte Ätzergebnisse zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet TCP 9600SE auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen. Die integrierten Kammerdruck- und Temperatursensoren sowie die trockene Abgasanlage der Kammer können helfen, die Sicherheit des Personals und die Integrität des Produkts zu gewährleisten. LAM RESEARCH TCP 9600 SE verfügt auch über zahlreiche Sicherheitsverriegelungen, einschließlich Prozesskammerschutz und maximale durchflussempfindliche Verriegelungen. LAM RESEARCH TCP 9600SE ist kompatibel mit der Mehrheit der Ätzchemie, einschließlich KOH, TMAH, Tetraethylammoniumhydroxid (TEAOH) und Flusssäure. Es kann auch mit einer Vielzahl von Substraten wie Si, GaAs und Aluminiumoxid verwendet werden. TCP 9600 SE ist für den Einsatz im Halbleiterherstellungsprozess bestimmt und bietet überlegene Ätzselektivität, Gleichmäßigkeit und Sicherheit. Es ist für eine breite Palette von Substratmaterialien und Ätzchemien konzipiert, die optimierte Ätzergebnisse ermöglichen.
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