Gebraucht LAM RESEARCH TCP 9600 #9098467 zu verkaufen

LAM RESEARCH TCP 9600 ist eine High-Tech-Trockenätzer/Ascher-Ausrüstung, die für Halbleiterverarbeitungsanwendungen wie Ätzen, Sputtern und Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde. Das System verwendet zwei Ionenquellen zum Ätzen und Abscheiden dünner Filme, eine zum Sputtern und ein beheiztes Spannfutter zur Probenvorbereitung. Der Ätzer/Ascher hat eine Vakuumkammer mit einem Basisdruck von 5,0 x 10-7 Torr und sorgt für einen gleichmäßigen Niederdruck im gesamten Aggregat. Es ist eine große Maschine mit einer Tiefe von acht Fuß und bietet Platz für mehrere Waferkonfigurationen mit einem Durchmesser von bis zu sechs Zoll. Das Tool ist mit einem eingebetteten High Performance Process Control (HPPC) Asset konzipiert. Dieses Modell automatisiert die Steuerung der Kammerkomponenten und die Steuerung mehrerer weiterer Prozessparameter. Es ermöglicht Anwendern die fortschrittliche Prozessentwicklung, Programmierung und Steuerung des Kammerprozesses und der Plasmabedingungen. Die fortschrittliche Energiepartikelsteuerung (EPC) von LAM RESEARCH TCP9600 bietet unabhängige Leistungssteuerung für Ätz- und Sputterquellen. Dies ermöglicht die Optimierung jeder Quelle unabhängig voneinander und bietet gleichzeitig eine verbesserte Prozessgleichmäßigkeit und Plasma mit hoher Dichte. Die Ausrüstung ist auch mit einem Präzisionsausrichtsystem (PAS) für die Ätz- und Sputterquellen ausgelegt. Dies ermöglicht eine genaue Ausrichtung der Quellen für einen möglichst hohen Durchsatz. Mit dem PAS kann die Kammer den maximalen Durchsatz bei konstanten und flachen Ätzanwendungen aufrechterhalten. Darüber hinaus umfasst TCP-9600 eine Echtzeit-Überwachungs- und Reporting-Einheit für die gesamte Kammer, die Echtzeit-Feedback und Nutzungsanalysen zur Prozessoptimierung bereitstellt. Die Maschine verfügt auch über ein Ingenieurpaket, das eine ganze Reihe von Prozessrezepten, Vorlagen und Modellen umfasst. TCP 9600 wurde entwickelt, um extreme Prozessflexibilität und Einheitlichkeit zu bieten. Die fortschrittlichen Systeme zur Steuerung der Energiepartikel und zur Präzisionsausrichtung bieten qualitativ hochwertige Ätz- und Sputterprozesse, während die Echtzeit-Überwachungs- und Berichtssysteme dem Benutzer ständiges Feedback bieten. Das Tool bietet eine zuverlässige Lösung für Halbleiterverarbeitungsanwendungen und ist ideal für Anwender, die maximale Prozessflexibilität und Einheitlichkeit benötigen.