Gebraucht LAM RESEARCH TCP 9600 #9243880 zu verkaufen

LAM RESEARCH TCP 9600
ID: 9243880
Weinlese: 1996
Metal etcher 1996 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascheausrüstung, die das Ätzen und Aschen von Halbleitermaterialien ermöglicht, um sie zu Komponenten höchster Qualität zu entwickeln. Dieses System verwendet fortschrittliche proprietäre Techniken, um hochauflösendes Ätzen und Aschen durchzuführen, was es zu einer idealen Wahl für die Geräteentwicklung und Prozessverbesserung macht. Diese Einheit hat einen hohen Durchsatz, was sie für große Serienläufe gut geeignet macht. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer breiten Palette von Plasmaätzoptionen verfügbar, wie Plasmaätzoberflächenbehandlung, Sauerstoffplasmaätzen und induktiv gekoppeltes Plasmaätzen, wodurch Kunden die beste Ätztechnik für ihre Anwendung auswählen können. LAM RESEARCH TCP9600 bietet eine hohe Kontrolle über den Ätzprozess, verbunden mit Flexibilität. Das Modell verfügt über eine schnelle Schaltfunktion, mit der Benutzer schnell und bequem von einem Modus in einen anderen wechseln können. Darüber hinaus können Anwender die für ihre Anwendung erforderlichen Prozessparameter mit dem programmierbaren Logikcontroller (SPS) problemlos pflegen. TCP-9600 verfügt über eine fortschrittliche Kühlwassermaschine mit effizienter Verarbeitung, die die Temperatur während des Ätzens und des Aschens aufrechterhält. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine integrierte Endpunktüberwachung (EPM), um sicherzustellen, dass Teile vollständig geätzt wurden. Die Benutzeroberfläche ist zudem sehr intuitiv und benutzerfreundlich und ermöglicht eine einfache, aber effiziente Bedienung. Darüber hinaus ist eine umfangreiche grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit Software-entwickelten Tipps, Befehlen und Anweisungen im Asset enthalten. Dadurch kann der Anwender die Prozesse überwachen und Statusinformationen in Echtzeit anzeigen, um die Genauigkeit im Ätz- und Ascheprozess zu gewährleisten. TCP9600 ist auf Leistung und Qualität ausgelegt. Es hat ein besonders schnelles Plasmapotential mit außergewöhnlicher Ätzgleichmäßigkeit und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus weist das Verfahren niedrige Fehlerraten und eine extrem hohe Schrittabdeckung auf, wodurch es für Anwendungen wie die Herstellung von hochvolumigen Halbleiterbauelementen oder die Herstellung von Nanometern geeignet ist. Dieses Modell ist mit mehreren Optionen erhältlich und kann in Bezug auf Leistung, Geschwindigkeit und Pulsbreite angepasst werden. Zum Beispiel kann TCP 9600 mit einem optionalen drahtlosen LAN für den Fernzugriff und die Datenprotokollierung ausgestattet werden. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine leistungsstarke und zuverlässige programmierbare Logiksteuerung (SPS), die problemlos eine Vielzahl von Betriebsparametern erzeugen kann, um die Prozesssteuerung und Vielseitigkeit zu optimieren.
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