Gebraucht LAM RESEARCH Torus 300K/RF #9395308 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9395308
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Etcher, 12"
SMIF/FOUP
Load module:
TAZMO TRP2500 Load port
TAZMO SW024 Loader arm
PVSK ADS 1202H Dry pump
Transfer module:
LAM RESEARCH Torus 300K Transfer arm (Robot)
PVSK ADS 1202H Dry pump
Process module:
LAM RESEARCH Torus 300K Chamber
PVSK ADS 1202H Pump
AD-TEC AX-1000 III RF Generator
LAM RESEARCH Torus 300K Gas box
LAM RESEARCH Torus 300K PC
HDD has been removed
Operating system: Windows 2000
2007 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300K/RF ist ein Ätzer/Ascher für Produktionsprozesse in fortschrittlichen Technologieknoten. Es handelt sich um eine hochkonfigurierbare Ausrüstung, die sowohl für die Fertigung von Front- als auch Back-End-Geräten verwendet werden kann. Das System verfügt über eine 300 mm Waferkapazität, eine Prozessgasfähigkeit von bis zu 5 Gasen gleichzeitig und verfügt über eine fortschrittliche Plasmareinigungs- und Ätzprozesstechnologie. Das Gerät verfügt über eine Batch-to-Batch-MDC (Multiple-Drag-Chain) -Funktion, um eine wiederholbare Ätzprofilsteuerung sicherzustellen. Der Torus 300K/RF Ätzer verfügt über eine modulare Architektur, die eine einfache Rekonfiguration ermöglicht, um zukünftigen Anforderungen gerecht zu werden, ohne die ursprüngliche Konfiguration zu beeinträchtigen. Der Ätzer hat einen massiv parallelen Ansatz zur Optimierung von Ätzprozessen mit mehreren Schritten und Parametern, um die gewünschte Ätzrate und Gleichmäßigkeit zu liefern. Es verfügt über temperaturgesteuerte Spannfutter, Quelle und Kammer, die Präzisionsprozesssteuerung auch für die komplexesten Ätzaufgaben beibehalten. LAM RESEARCH Torus 300K/RF kann mit einer breiten Palette von Plasmagasen und Chemikalien arbeiten und ermöglicht eine perfekte Steuerung von Ätzprozessen. Darüber hinaus bietet es eine komplette Automatisierung mit roboterkompatiblem Lastdock und einem Kassetten-zu-Kassetten-Protokoll, das den Produktionsprozess einfach und effizient macht. Die innovative duale HF-Stromerzeugertechnologie von LAM RESEARCH Torus 300K/RF ermöglicht den Betrieb mit hoher und niedriger Leistung ohne Kompromisse bei Ätzraten. Darüber hinaus ist die Maschine mit In-Situ- und Echtzeit-Endpunkterkennung ausgestattet, um eine präzise Ätztiefe und Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Ein adaptiver Plasmagenerator passt Prozessparameter automatisch in Echtzeit an, um schnelle Ätzraten zu erhalten und Plasmakontaminationen zu beseitigen. Bemerkenswert ist auch die Wiederholbarkeit der Ätzprozesse mit dem Werkzeug, da die Genauigkeit der Ätzrate so eng wie innerhalb von 1% sein kann. LAM RESEARCH Torus 300K/RF kann mit mehreren Endpunktdetektoren installiert werden und ermöglicht einen einfachen Wechsel zwischen Endpunktstrategien sowie zwischen mehreren Prozessen. Darüber hinaus ist die Anlage mit Sicherheits- und Gesundheitsfunktionen konzipiert, um sicherzustellen, dass der Ätzer zu 100% den neuesten Sicherheitsstandards der Branche entspricht. Insgesamt ist LAM RESEARCH Torus 300K/RF ein vielseitiger, leistungsstarker Ätzer mit präziser Ätzratenkontrolle und Gleichmäßigkeitsfunktionen für fortschrittliche Geräteherstellungsprozesse.
Es liegen noch keine Bewertungen vor