Gebraucht LAM RESEARCH Torus 300K #9244819 zu verkaufen

LAM RESEARCH Torus 300K ist ein modernes Ätz-/Aschergerät für die Waferbearbeitung. Das System nutzt fortschrittliche Impulsätz- und Aschetechnologie für präzises Waferätzen. Es ist mit einer PED-Technik (Pulsed Etching and Deposition) ausgestattet, die präzises Ätzen und Aschen mit hohem Durchsatz ermöglicht. Die Einheit ist in der Lage, Strukturen mit hohem Seitenverhältnis auf der Waferoberfläche effizient und präzise zu erstellen, wobei zelluläre Muster und andere Merkmale auf dem Wafer bei der Herstellung erhalten bleiben. Die Maschine enthält auch ein Werkzeug zur chemischen Dampfabscheidung bei atmosphärischem Druck (APCVD) mit einer breiten Palette von Abscheidungsmaterialien. Der APCVD ermöglicht die Abscheidung verschiedener dielektrischer Materialien mit sorgfältig kontrollierter Dicke. Darüber hinaus ist Titannitrid (TiN) eines der am häufigsten verwendeten abgeschiedenen Materialien, es kann den Schottky-Kontakt zwischen der Waferoberfläche und den darauf aufgebauten Elektroden optimieren. Darüber hinaus trägt die aktive Gaskontrollfunktion des Vermögenswertes dazu bei, die Umweltauswirkungen zu minimieren, indem Abfälle minimiert werden; es soll den Gasverbrauch, den chemischen Abfall und den Fußabdruck des Modells selbst minimieren. Die Waferkammer in Torus 300K ist von großer Größe und hat eine gleichmäßige Verteilung der Ein- und Ausgänge. Die Eingänge umfassen einen HF-Eingang, Heliumgas und Massenstromregler, während die Ausgänge einen Abscheideroboter und Flüssigkeitsreiniger umfassen. Zur Messung der Wafertemperatur ist eine Photovoltaikzelle enthalten, ein Standardteil der Ausrüstung. Das System enthält auch einen Mustergenerator, der präzise und einheitliche Muster bereitstellt, wie von den Anwendungen gefordert. Im Design umfasst LAM RESEARCH Torus 300K eine innovative Doppelkammer-Modulbauweise. Seine Hauptmerkmale umfassen schnelle Kammerspülung, kurze Abklingzeit, schnelles Rampen und präzise HF-Steuerung. Die Doppelkammerausführung und schnelle Kammerspülung tragen dazu bei, das Risiko von Temperaturgradienten in den Halbleiterscheiben während der Verarbeitung zu reduzieren. Darüber hinaus bietet die HF-Leistungsregelung eine feinjustierte Steuerung des Ätzprozesses, um gewünschte Formen im Wafer zu erreichen. Insgesamt ist Torus 300K eine effektive und effiziente Ätz-/Aschereinheit, die den höchsten Industriestandards entspricht. Die präzisen Ätz- und Aschetechnologien in Verbindung mit einer zuverlässigen HF-Steuerung bieten detaillierte Muster, die mit den erforderlichen Anwendungen übereinstimmen. Darüber hinaus ermöglicht die innovative Dualkammer-Modulkonstruktion ein schnelles Rampen, eine sichere Kammerspülung und eine kurze Abklingzeit und sorgt so für einheitliche Ergebnisse. Hoher Durchsatz und Umweltfreundlichkeit sind zwei weitere große Vorteile der Maschine, so dass es ideal für verschiedene Halbleiterherstellungsprozesse.