Gebraucht LAM RESEARCH Torus 300S/RF #9395313 zu verkaufen

ID: 9395313
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Plasma etchers, 12" SMIF/FOUP Load module: CYMECHS DURAPORT Load port AITEC WV300 Loader arm PVSK ADS 1202H Dry pump Transfer module: CYMECHS AI-2500 Transfer arm (Robot) PVSK ADS 1202H Dry pump Process module: LAM RESEARCH Torus 300S Chamber PVSK ADS 1202H Pump ADVANCED ENERGY RFG 1251 RF Generator LAM RESEARCH Torus 300S Gas box LAM RESEARCH Torus 300S PC HDD has been removed Operating system: Windows 2000 2010 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300S/RF ist ein Ätzer/Ascher-Gerät, das für hohe Durchsatzleistung und präzise Steuerung von Prozessparametern entwickelt wurde. Es verfügt über ein kostengünstiges, flexibles Design, das es dem Benutzer ermöglicht, die Prozessflussrate und das Schichtprofil einfach anzupassen, um die gewünschte Oberflächenqualität zu erreichen. Der Torus 300S/ RF bietet mit seiner 365mm x 365mm x 25mm breiten Bearbeitungskammer eine hohe Plasmaätzgleichmäßigkeit, was höhere Seitenverhältnisse und dickere geätzte Filme ermöglicht. Das fortschrittliche Kühlsystem ermöglicht einen effizienteren Betrieb, was zu einer besseren Ätztiefe und fehlerfreien Oberflächen führt. Das Gerät wird von einem fortschrittlichen HF-Generator angetrieben, der unabhängige Ionen und Radikale bereitstellt, die jeden Ätzschritt mit Präzision optimieren können. Die Vorrichtung unterstützt das Plasmaätzen aller dielektrischen, organischen und metallischen Materialien mit der zusätzlichen Fähigkeit, mehrere Materialschichten zu durchätzen. Die Torus 300S/RF ist auch mit einem integrierten, vollständig konformen Spurenfeuchtigkeitssystem ausgestattet, das eine hervorragende Wiederholbarkeit und zuverlässige, reproduzierbare Plasmaätzergebnisse gewährleistet. Die Torus- 300S/RF kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Ätzformen zu produzieren, einschließlich VPS-Gräben, vertiefte Ringe, überzogene Vias und Hohlräume oder Ausschnitte. Dieses Gerät ist mit einem automatisierten Be-/Entladesystem und einer Touchscreen-Schnittstelle zur benutzerfreundlichen Parametereinstellung ausgestattet. Es ist auch in der Lage, hohe Temperaturen bis zu 585 ° C für die Qualität der Waferbearbeitung aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine schnellere „Power-up to ready-for-etch“ -Zeit von nur 40 Minuten. LAM RESEARCH Torus 300S/RF ist die ideale Ätzlösung für zeitempfindliche Prozesse. Der modulare Aufbau und die konsistente einheitliche Ätzung ermöglichen wiederholbare, zuverlässige Prozessergebnisse und bieten Anwendern kostengünstig eine High-End-Ätzlösung. Trotz seiner geringen Größe ermöglicht es die Verarbeitung durch die dicksten Filme in kürzester Zeit.
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