Gebraucht MARCH Plasmod #9058869 zu verkaufen

MARCH Plasmod ist eine hochmoderne Ätztechnologie zur Herstellung von nanoskaligen Mustern auf der Oberfläche verschiedener Materialien. Es funktioniert, indem es eine Kombination aus physikalisch-chemischen Prozessen wie Deep Reactive Ion Etching (DRIE) und Atomic Layer Deposition (ALD) verwendet, um ein chemisch eindeutiges Muster auf der Oberfläche zu erzeugen. Plasmod-Geräte sind ein Cluster-Tool, das aus mehreren Modulen besteht, um einen modularen Ansatz zur Strukturierung von Nanometer-Skalierungsmerkmalen zu ermöglichen. Das Kernmodul enthält beispielsweise die Plasmaquelle und die Ätz-/Reinigungskammern sowie einen Satz Elektroden. Darüber hinaus kann jedes Modul einen anderen Satz von Gasen, Fluß- und Spülverbindungssystemen, einen Druckregler, Netzteile und eine Verriegelung enthalten. Der erste Schritt bei der Verwendung des MARCH Plasmod Systems besteht darin, ein geeignetes Substrat für den Ätzprozess vorzubereiten. Dies geschieht durch Erzeugen eines Musters in dem Substrat, das eine hohe Oberfläche aufweist. Dies geschieht durch eine Kombination aus Lithographie, HF-Sputtern und chemischen Ätztechniken. Danach wird das Substrat in das Kernmodul der Plasmod-Einheit eingelegt. Einmal im Kernmodul wird das Substrat einem Hochleistungs- und Niederfrequenz-HF-Plasma ausgesetzt. Dadurch entsteht eine starke Ätzchemie, die mit dem zu ätzenden Material reagiert und zu dem gewünschten Muster auf der Oberfläche führt. Dabei muss das Substrat auf Sauberkeit, Ätzrate und Temperatur überwacht werden und kann bedarfsgerecht durch Einstellung des Leistungspegels und der Gasströme eingestellt werden. Sobald das Ätzen abgeschlossen ist, kann die MARCH Plasmod-Maschine für einen Atomschichtabscheidungsprozess (ALD) verwendet werden. ALD ist eine Abscheidungstechnik, die verwendet wird, um gleichmäßige dünne Filme auf der Oberfläche des Substrats zu erzeugen. Dies geschieht, indem das Substrat abwechselnd zwei verschiedenen Vorläufern ausgesetzt und anschließend zu einer monoatomaren Materialschicht polymerisiert wird. Nach Beendigung des Abscheidungsprozesses wird das Substrat gereinigt und aus dem Plasmod-Werkzeug entfernt. Je nach Anwendungsart kann die Funktionsgröße von wenigen Nanometern bis zu mehreren Mikrometern reichen. MARCH Asset kann auch für Materialien wie Metalle, Keramik und Polymere verwendet werden. Zusammenfassend ist MARCH Plasmod ein fortschrittliches Ätzmodell, das in der Lage ist, Funktionen im Nanometermaßstab auf einer Vielzahl von Substraten zu erstellen.