Gebraucht MATRIX System One 103 #9201876 zu verkaufen
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ID: 9201876
Wafergröße: 6"
Stripper, 6"
Included ranging:
50mm up to 150mm
The system optimizes vital device parameters:
Enhanced gate oxide integrity
Reduced threshold and capacitance voltage shifts
Reduced contact resistance / Oxidation
Photoresist Stripping:
High dose implant
Post-polysilicon etch
Post-metal etch
Post-oxide etch
Controlled resist removal:
Post-develop descum (pre-etch)
Dry / wet process capability
Uniformity capability (<5% 1σ)
GaAs, InP wafer strip and descum
Thin film head resist cleaning
Opto-electronic devices cleaning
MEMS
Single wafer multi-Step Processing:
Precisely controlled & repeatable stripping of each wafer
(3) programmable steps + overstrip
Capable of long process times for exceptional control
High throughput:
35 WPH on 150mm substrate
Aluminum Wafer Chuck:
Fast
Precise
Uniform removal of resist
Low Particles:
0.1 particles (>0.3μm) added per cm2
Proven System Performance:
700 System ones in use worldwide
95% uptime
Proven Reactor Design:
Closed-loop temperature control
Stable range for strip:
150°C – 250ºC (+/-5°C)
For descum:
70°C – 150ºC .
MATRIX Equipment One 103 ist ein fortschrittliches Ätz- und Aschesystem, das entwickelt wurde, um effiziente, präzise Qualitätskontrollprozesse für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bereitzustellen. Unit One 103 ist eine planare Maschine mit Plasma- und Nassätzen und ist in der Lage, verschiedene Arten von Substratmaterialien zu handhaben, einschließlich Siliziumscheiben, Metall, Glas und viele nichtmetallische und organische Materialien. MATRIX Tool One 103 hat eine maximale Kammergröße von 836mm x 788mm und wurde entwickelt, um eine stabile Ätzrate von bis zu 20 Mikrometer/s mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit zu bieten. Asset One 103 verfügt über mehrere Funktionen und Funktionen, die es zu einer idealen Wahl für komplexe Ätz- und Ashing-Anwendungen machen. Das Modell ist hochautomatisiert mit einer intuitiven Touchscreen-Benutzeroberfläche, die es Anwendern ermöglicht, Parameter einfach einzugeben und die Geräte für die effizienteste Bedienung einzurichten. Darüber hinaus verfügt das System über eine Vielzahl von Steuerungskomponenten, darunter eine tablettenbasierte Steuerung, eine programmierbare Logiksteuerung (SPS), einen Gaskrümmer und eine vorgeschaltete und nachgeschaltete Prozessüberwachungseinheit. Alle diese Komponenten arbeiten zusammen, um die Prozessparameter anpassen zu können, um die gewünschten Ätz- und Ascheergebnisse zu erzielen. MATRIX Machine One 103 unterstützt auch eine breite Palette von Prozesschemikalien, einschließlich gasförmiger und flüssiger Chemikalien. Mit diesem Werkzeug lassen sich Reaktionsparameter wie Druck, Temperatur, Gasströme, Spannungen und Substratbefehle effektiv steuern und überwachen. Zum Asset gehört auch ein Untermodell zur automatischen Wafererkennung und Substratbeladung für einen verbesserten Fertigungsdurchsatz. Equipment One 103 enthält eine Reihe fortschrittlicher Sicherheitsfunktionen, einschließlich einer Stickstoffreinigungsfähigkeit zur Minimierung gefährlicher Gase und eines Inline-Filtersystems, um zu verhindern, dass Staubpartikel in die Kammer gelangen. Darüber hinaus verfügt es über eine programmierbare, umweltverträgliche Ätzeinheit (PEAE), die darauf ausgelegt ist, die optimalen Ätz- und Aschebedingungen ohne manuelle Anpassung zu erreichen. Das Gerät verfügt außerdem über eine fortschrittliche Überwachungsmaschine, die in Echtzeit Informationen über die Prozessparameter wie Temperatur, Druck und Ströme liefert und eine detaillierte Ansicht der Werkzeugleistung liefert. Insgesamt wurde MATRIX Asset One 103 entwickelt, um hocheffiziente und präzise Ätz- und Ascheprozesse mit exzellenter Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Dieses Modell verfügt über eine breite Palette von erweiterten Funktionen, so dass es an bestimmte Anwendungen angepasst werden kann und eine ausgezeichnete Prozesswiederholbarkeit und -kontrolle bietet. Es ist eine ideale Wahl für moderne Halbleiterätz- und -veraschungsanforderungen und bietet Anwendern die Möglichkeit, Produkte höchster Qualität schnell und effizient herzustellen.
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