Gebraucht MATRIX System One 106 #9098102 zu verkaufen
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ID: 9098102
Wafergröße: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent controller:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF Water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80° to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station
Controller:
Gas flows: Up to 3
RF Power: 100 to 500 W
Process pressure
Absolute endpoint time
Optical endpoint parameters
Gas controller:
Substrate positioning
Pressure controller.
MATRIX Equipment One 106 ist ein voll ausgestattetes Ätz- und Aschesystem für den Einsatz in Halbleiterlaborumgebungen. Es ist die perfekte Lösung für diejenigen, die eine zuverlässige Möglichkeit zur Herstellung von Metallmustern auf Wafern mit schnellen Zykluszeiten, hoher Genauigkeit und niedrigen Kosten suchen. Diese Einheit ist in der Lage, bis zu 8 "Wafer in variabler Dicke und Maskenschichten zu ätzen und zu aschen. Machine One 106 verwendet fortschrittliche technologische Funktionen, um die bestmöglichen Asche- und Ätzergebnisse zu gewährleisten. Seine hohe Genauigkeit, wiederholbare Prozesssteuerung und schnelle Zykluszeit macht es zu einer großen Wahl für Produktion und F & E-Aktivitäten. Es verwendet eine horizontal rotierende Ätz- und Ascheplattform für verbesserte Genauigkeit. Das Werkzeug ist auch mit einer automatischen Wendevorrichtung integriert, um ein ordnungsgemäßes Ätzen, Reinigen und Konditionieren von Wafern zu gewährleisten. Das MATRIX Modell One 106 umfasst ein einstellbares HF-Treibernetzteil, ein einstellbares Lastschloss, eine einstellbare Gaszufuhrausrüstung und einen einstellbaren Frequenzgenerator. Es verfügt über einen ein- oder zweizyklusverstellbaren Ätz- und Aschemodus, sodass Sie den Prozess auf Ihre spezifischen Anforderungen abstimmen können. Der einstellbare HF-Treiber ermöglicht auch den Einsatz von System One 106 mit verschiedenen Gasen und Flüssigkeitsgemischen, so dass Sie das Gerät mit einer Vielzahl von Materialien bedienen können. MATRIX Machine One 106 verfügt über ein wartungsarmes und benutzerfreundliches Design. Es verfügt über eine leicht lesbare, intuitive Benutzeroberfläche für eine schnelle und genaue Bedienung. Das Werkzeug ist in der Lage, in einer Vielzahl von Temperatur- und Druckumgebungen zu arbeiten. Es ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen und mehreren Überwachungsfunktionen ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Wafer sicher und genau verarbeitet werden. Asset One 106 ist mit einer Vielzahl von Komponenten für effizientes und zuverlässiges Ätzen und Aschen ausgestattet. Es verfügt über ein Gehäuse, das entwickelt wurde, um die Sauberkeit der HF-Umgebung zu gewährleisten, und seine Einstellbarkeit ermöglicht es, den Ätzprozess zu optimieren. Die hohe Genauigkeit des Modells sorgt dafür, dass der Ätz- und Ascheprozess Materialien bei minimaler Verschwendung auf die gewünschten Bereiche leitet. MATRIX Equipment One 106 bietet eine erschwingliche und zuverlässige Ätz- und Veraschungslösung für F&E und Produktionsanwendungen. Es ist eine gute Wahl für diejenigen, die schnelle Zykluszeiten und zuverlässige Metallmuster auf Wafern erhalten möchten.
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