Gebraucht MATRIX System One 302 #9201781 zu verkaufen
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ID: 9201781
Wafergröße: 6"
Etchers, 6"
Electro-mechanical production system:
Nitride
Oxide
Polysilicon
Chemical reaction induced by a gas plasma
Etching main console module:
Process
Operator interface
Wafer transport
Card reader
Elevator
Microprocessor control
Etching power supply console:
RF Generator
DC Supply
AC Distribution
Gas distribution panel
Temperature / Pressure control
Physical specifications:
Main console Power supply Console overall
Width 25″ 25″ 25″
Depth 28″ 28″ 28″
Height 22″ 36″ 58″
Weight 100 lbs 310 lbs 410 lbs.
MATRIX Equipment One 302 ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es ist ein vollautomatisiertes Hochfrequenz-Sputterwerkzeug, das qualitativ hochwertige Ablagerungen von Dünnfilmbeschichtungen herstellen kann. Die 302 montiert sowohl eigenständige als auch automatisierte Robotersysteme und wird von einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche (GUI) gesteuert, die eine flexible Anpassung der Parameter für den Ätz-/Ascheprozess ermöglicht. Das System One 302 verfügt über einen internen Hochfrequenzgenerator (HFA), um die Ionisierung und Beschuss zu erzeugen, die für ein effektives Ätzen/Aschen erforderlich sind. Das Gerät ist in der Lage, eine HF-Leistung von bis zu 3KW an die Zieloberfläche zu liefern und bietet eine präzise Kontrolle sowohl über Druck als auch Temperatur. Die ionisierte Plasmadichte ist einstellbar, ebenso wie die Sputterausbeute, wodurch ein hochansprechender Prozess entsteht. Die 302 ist mit fortschrittlichen Werkzeugen zur Überwachung und Analyse des Prozesses ausgestattet. Dazu gehören ein voll programmierbarer Multi-Channel Analyzer (MCA) und ein Advanced Array Collector (ACC) zur Messung und Analyse der Leistung des Ätz-/Ascheprozesses. Die Maschine bietet zudem eine sichere Datenspeicherung und Archivierung von bis zu 5 GB, was eine effiziente Nachbearbeitung der erzeugten Daten ermöglicht. MATRIX Tool One 302 ist für den Einsatz in der Halbleiterindustrie konzipiert und verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie hohe Sputterausbeute und präzise Kontrolle des Ätz-/Ascheprozesses. Dieser Ätzer/Ascher ist in der Lage, hochwertige, konsistente dünne Filme aus Metallpartikeln herzustellen und bietet eine überlegene Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit. Das 302 ist einfach zu bedienen und zu warten, so dass es eine ideale Wahl für anspruchsvolle Halbleiterproduktionsumgebungen ist.
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