Gebraucht MATTSON Aspen II #293633237 zu verkaufen

MATTSON Aspen II ist eine Hochleistungs-Präzisionsätzmaschine für zuverlässigen Betrieb in Produktions- und Forschungsumgebungen. Seine fortschrittliche Technologie macht es zu einer idealen Wahl für Ätzratenkontrolle, Substratgleichförmigkeit und feine Linienmusterätzanwendungen. Ausgestattet mit einem schnellen und leistungsstarken 10-kW-HF-Netzteil und einem PZT-Wandler bietet Aspen II hervorragende Wiederholbarkeit, hochauflösende Funktionen und ausgezeichnete Selektivität. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien wie Silizium, Saphir, Quarz und Glas zu ätzen. MATTSON Aspen II ist mit einem digitalen 4-Achsen-CNC-Controller ausgestattet, um eine genaue und wiederholbare Verarbeitung mit Leichtigkeit zu gewährleisten. Die Maschine ist mit einer breiten Palette von In-situ- und Ex-situ-Prozesskontrollgeräten ausgestattet. Dazu gehören digitale Drucksteuerung, Chlorgasmessung in situ und vollautomatische Eintauchvorreinigungs- und Nachreinigungsprogramme. Dadurch ergibt sich ein hervorragendes Maß an Ätzgenauigkeit und Durchsatz, was zu höheren Ausbeuten und kürzeren Zykluszeiten führt. Aspen II verfügt außerdem über eine fortschrittliche Plasmaquelle und ein erweitertes HF-Abgleichsystem. Diese Kombination wurde entwickelt, um hervorragende wiederholbare Plasmen mit minimalem inversen Verlust zu bieten und die besten Prozessbedingungen aufrechtzuerhalten. Die Plasmaquelle nutzt das patentierte Multi-Dose System (MDS). Es ist in der Lage, eine homogene Glimmentladung bereitzustellen, abstimmbar, um höhere Abscheidungsraten und verbesserte Ätzselektivität bereitzustellen. MATTSON Aspen II unterstützt auch eine breite Palette von Ätzchemikalien, einschließlich Fluor-basiertes Ätzen, indirektes Nassätzen und Ionenmahlen. Für verbesserte Ätzergebnisse ermöglicht die Prozesssteuereinrichtung die Einstellung optimierter Rezeptur- und Ätzparameter für jeden bearbeiteten Wafer. Es ist auch in der Lage, mit chemischen und physikalischen Methoden wie Ultraschall-Rühren zu reinigen und zu strippen. Aspen II bietet eine umfassende Lösung für Ätz- und Ascheanwendungen. Es bietet hervorragende Wiederholbarkeit, hochauflösendes Feature-Etching und optimierten Durchsatz. Die fortschrittliche Prozesssteuerung und das Plasmaquellendesign sorgen für Qualitätsergebnisse mit weniger Wartung und Ausfallzeiten.