Gebraucht MATTSON Aspen II #9185171 zu verkaufen

MATTSON Aspen II ist eine reaktive Ionenätz- und Aschereinrichtung, die speziell für den Einsatz in Halbleiterwaferherstellungsprozessen entwickelt wurde. Dieses System ist in der Lage, Substrate mit einer Vielzahl von Ätz-/Ascheprozesschemien zu ätzen und zu aschen. Dank der präzise positionierten Elektroden, der sehr hohen Wiederholbarkeit und der geringen Verschmutzung zeichnet es sich durch hohe Geschwindigkeit, hohen Durchsatz und Asche aus. Aspen II wurde entwickelt, um sowohl mit Säuren als auch mit Gasen zu arbeiten und kann alle Arten von Ätz-/Ascheprozesschemien ohne größere Modifikationen handhaben. MATTSON Aspen II kann zum Plasmaätzen, Aschen und Ascheätzen von ankommenden Substraten sowie zum Abscheiden von dünnen Filmen verwendet werden. Diese Einheit ist in sich geschlossen und arbeitet in einer einstufigen Vakuumkammer, die unter bestimmten Drücken abgedichtet und gehalten wird. Sie umfasst eine Ätz-/Aschegasfördermaschine, eine Kammer für die Reaktion, eine HF-Strahlungsversorgung und eine Steuerung zum Betrieb und zur Überwachung des Prozesses. Die Kammer wurde speziell entwickelt, um ein gleichmäßiges Ätzen von Substraten über eine aufwendige Anordnung von Elektroden bereitzustellen, die eine sehr genaue Kontrolle der Oberflächenchemie des Substrats ermöglicht. Zu den Vorteilen des Einsatzes von Aspen II zählen schnelle Zykluszeiten, hoher Durchsatz, sehr hohe Wiederholbarkeit und geringe Verschmutzungen. Das Werkzeug ist für den Betrieb in einer Niederdruckumgebung konzipiert, in der der Ätzprozess für beste Ergebnisse optimiert ist. Die eingebaute Gaslieferanlage ist programmierbar, um Flexibilität bei der Arbeit mit verschiedenen Prozesschemien und Substraten zu bieten. Die HF-Strahlungsversorgung sorgt außerdem dafür, dass der Ätzvorgang genau und kontrolliert ist. Auch die Wartung des Modells ist einfach und kostengünstig. Die Kammer- und Gasförderausrüstung kann zur Reinigung demontiert werden, und alle Teile werden bei Bedarf leicht ausgetauscht. Das System ist auch für die automatisierte Diagnose und Fehlerbehebung konfiguriert, was die Wartung sehr schnell und einfach macht. Abschließend ist MATTSON Aspen II eine sehr leistungsfähige Ätz- und Aschereinheit, die speziell für den Einsatz in Halbleiter-Wafer-Herstellungsprozessen entwickelt wurde. Es ist sehr genau und effizient, und seine Komponenten sind leicht auszutauschen, wenn nötig. Es ist auch sehr kostengünstig, sowohl in Bezug auf Erstinvestitionen als auch in Bezug auf Instandhaltung und Instandhaltung. Aspen II ist eine großartige Lösung für jede Branche, die zuverlässiges, wiederholbares und schnelles Ätzen und Aschen von Substraten erfordert.