Gebraucht MATTSON Aspen II #9398659 zu verkaufen

Hersteller
MATTSON
Modell
Aspen II
ID: 9398659
Wafergröße: 8"
ICP System, 8" MATTSON Endpoint detection system With fixed filters: 430 and 520 Cable length: 19 ft (3) RF Cables and signal cables (2) Heaters MFC Chambers: Back chamber: 366 MHz CPU: Analog in and PCB out Floppy Disk Drive (FDD): DI/DO Cards Chassis: Power supply Gas channel: Bottom feed channel Cool down station: No water cooling Gas lines Right chamber: 366 MHz CPU: SEC II Card Floppy Disk Drive (FDD): Robot stepper (SMC-PC3) Chassis: Backing plain Gas channel: Junction box Cool down station: Lexan plates Gas lines with filters Front end: 26" Opening with separate operator interface 4-Color light tower Operator / Engineering monitor: TFT Design monitor Gas box with sub frames EMO Buttons Interlock circuit: Push button switches Hanging panels Load lock: Single load lock (2) Cassette stations Capability of queuing lots Pin search assembly: Proximity sensors Load lock seal: Lip seal Platform and cassette: (4) 25-Slot cassettes Rotating cassette nests, 8" Cool down station: Flat cool down station without water lines Load lock fast exchange Transfer robot: Main robot: 3-Axis robot with flex cable Robot arm: (4) Adjustable paddles with standard arm Slit door Wafer sensors: Paddles, front and rear cassettes Shuttle: 26" Process module: Chamber right and back: Tube type: Quartz tube Standard process window ICP Chamber O-ring type: Flurosilicon Temperature controller: WATLOW 988 / EZ Zone Thermal couples: Spring loaded TC Lift pin assembly Grids / Guide rings: Extended guide ring Electrical feed through Manifold and ceramic parts Isolation valve Top plate Load lock Chamber Pressure controller: VAT Valve pressure controller Chamber manometer: 10 Torr Load lock manometer: 100 Torr Shuttle manometer: 1000 Torr RF / MW System: RF System: Top RF 13.56 MHz (3) RFPP10 RF Generators: (2) Power cables missing TRAZER AMU 10D-2 RF Top match, P/N: 914-92003-00: (2) Vacuum capacitors missing Re-silvered RF coils (125) RF Vacuum caps: 100PF AC Box: 2-3 Phase generators with safety cover DC Box Gas system: Gas VCR gasket: Stainless steel and Nickel Gas line / Gas / Range Gas 1 / O2 / 1000 SCCM Gas 2 / N2 / 1000 SCCM Gas 3 / N2/H2 (4%) / 2000 SCCM Gas 4 / CF4 / 100 SCCM Side: Gas 1 / O2 / 5 SLM Gas 2 / N2 / 1 SLM Gas 3 / CF4 / 200 SCCM Gas 4 / O2 / 1 SLM Rear: Gas 1 / O2 / 10 SLM Gas 2 / N2 / 1 SLM Gas 3 / CF4 / 200 SCCM Gas 4 / O2 / 1 SLM.
MATTSON Aspen II ist eine fortschrittliche Ätzausrüstung, die Präzisionsätzen mit hohem Durchsatz und niedrigen Betriebskosten bietet. Es wurde entwickelt, um die Produktivität zu steigern und gleichzeitig eine hohe Flexibilität und Kontrolle über Ätzparameter zu gewährleisten. Aspen II wird in zahlreichen Arten von Anwendungen und Forschungsprojekten eingesetzt, die ein Ätzen verschiedener Materialien erfordern. Es eignet sich zum Ätzen vieler Substrate, einschließlich Silizium, Quarz, Molybdän und Edelstahl. Das System verfügt über eine verstellbare Bühne, um große oder kleine Substrate einschließlich Ecken, Kanten und Stufen leicht zu ätzen. Durch die große Ätzkammer können mehrere Wafer gleichzeitig geätzt werden, um die Produktion zu beschleunigen. MATTSON Aspen II ist mit einem ultrapräzisen Roboterantrieb X, Y, Z mit einer Höchstgeschwindigkeit von 11 mm/s bestens ausgestattet. Es verfügt auch über Hochgeschwindigkeits-Vision-basierte Ausrichtung und Auto-Fokussierung. Zur optimalen Kühlung des Substrats zur Stabilisierung des Ätzprozesses weist die Einheit außerdem einen Kühler auf. Die Ätzrate ist sehr stabil und bietet flexible Ätzbedingungen mit der Fähigkeit, hohe Leistungsergebnisse zu wiederholen. Die Maschine ist mit einer Vakuumpumpe ausgestattet und kann eine Niedervakuumumumgebung mit einem Kammerdruck von 5 mTorr erzeugen. Das Werkzeug verfügt außerdem über eine eingebaute Vorkammerentgasung, die unberührte Ätzbedingungen ermöglicht. Aspen II kann auch anisotrop geätzt werden, wobei die Ätzrate entlang der vertikalen Achse höher ist als die Ätzrate entlang der horizontalen Achse. MATTSON Aspen II verfügt über eine breite Palette von Ätzchemikalien wie Sauerstoff, Chlor, Schwefelhexafluorid und Fluorreste. Um reproduzierbare Ergebnisse zu gewährleisten, verfügt das Modell auch über eine Fernsteuerung über Schlüsselparameter wie elektrische Leistung, Temperatur und Ionenquelle. Darüber hinaus kann die Anlage problemlos in bestehende Halbleiterprozesse integriert werden. Aspen II ist eine ausgezeichnete Wahl für Hochleistungs-Hochdurchsatzätzen. Seine robuste Konstruktion und Präzision machen es zu einer perfekten Wahl für viele verschiedene Ätzanwendungen.
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