Gebraucht MATTSON Aspen II #9398659 zu verkaufen
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ID: 9398659
Wafergröße: 8"
ICP System, 8"
MATTSON Endpoint detection system
With fixed filters: 430 and 520
Cable length: 19 ft
(3) RF Cables and signal cables
(2) Heaters
MFC
Chambers:
Back chamber:
366 MHz CPU: Analog in and PCB out
Floppy Disk Drive (FDD): DI/DO Cards
Chassis: Power supply
Gas channel: Bottom feed channel
Cool down station: No water cooling
Gas lines
Right chamber:
366 MHz CPU: SEC II Card
Floppy Disk Drive (FDD): Robot stepper (SMC-PC3)
Chassis: Backing plain
Gas channel: Junction box
Cool down station: Lexan plates
Gas lines with filters
Front end:
26" Opening with separate operator interface
4-Color light tower
Operator / Engineering monitor: TFT Design monitor
Gas box with sub frames
EMO Buttons
Interlock circuit: Push button switches
Hanging panels
Load lock:
Single load lock
(2) Cassette stations
Capability of queuing lots
Pin search assembly: Proximity sensors
Load lock seal: Lip seal
Platform and cassette:
(4) 25-Slot cassettes
Rotating cassette nests, 8"
Cool down station: Flat cool down station without water lines
Load lock fast exchange
Transfer robot:
Main robot: 3-Axis robot with flex cable
Robot arm: (4) Adjustable paddles with standard arm
Slit door
Wafer sensors: Paddles, front and rear cassettes
Shuttle: 26"
Process module:
Chamber right and back:
Tube type: Quartz tube
Standard process window
ICP Chamber O-ring type: Flurosilicon
Temperature controller: WATLOW 988 / EZ Zone
Thermal couples: Spring loaded TC
Lift pin assembly
Grids / Guide rings: Extended guide ring
Electrical feed through
Manifold and ceramic parts
Isolation valve
Top plate
Load lock
Chamber
Pressure controller:
VAT Valve pressure controller
Chamber manometer: 10 Torr
Load lock manometer: 100 Torr
Shuttle manometer: 1000 Torr
RF / MW System:
RF System: Top RF 13.56 MHz
(3) RFPP10 RF Generators: (2) Power cables missing
TRAZER AMU 10D-2 RF Top match, P/N: 914-92003-00: (2) Vacuum capacitors missing
Re-silvered RF coils
(125) RF Vacuum caps: 100PF
AC Box: 2-3 Phase generators with safety cover
DC Box
Gas system:
Gas VCR gasket: Stainless steel and Nickel
Gas line / Gas / Range
Gas 1 / O2 / 1000 SCCM
Gas 2 / N2 / 1000 SCCM
Gas 3 / N2/H2 (4%) / 2000 SCCM
Gas 4 / CF4 / 100 SCCM
Side:
Gas 1 / O2 / 5 SLM
Gas 2 / N2 / 1 SLM
Gas 3 / CF4 / 200 SCCM
Gas 4 / O2 / 1 SLM
Rear:
Gas 1 / O2 / 10 SLM
Gas 2 / N2 / 1 SLM
Gas 3 / CF4 / 200 SCCM
Gas 4 / O2 / 1 SLM.
MATTSON Aspen II ist eine fortschrittliche Ätzausrüstung, die Präzisionsätzen mit hohem Durchsatz und niedrigen Betriebskosten bietet. Es wurde entwickelt, um die Produktivität zu steigern und gleichzeitig eine hohe Flexibilität und Kontrolle über Ätzparameter zu gewährleisten. Aspen II wird in zahlreichen Arten von Anwendungen und Forschungsprojekten eingesetzt, die ein Ätzen verschiedener Materialien erfordern. Es eignet sich zum Ätzen vieler Substrate, einschließlich Silizium, Quarz, Molybdän und Edelstahl. Das System verfügt über eine verstellbare Bühne, um große oder kleine Substrate einschließlich Ecken, Kanten und Stufen leicht zu ätzen. Durch die große Ätzkammer können mehrere Wafer gleichzeitig geätzt werden, um die Produktion zu beschleunigen. MATTSON Aspen II ist mit einem ultrapräzisen Roboterantrieb X, Y, Z mit einer Höchstgeschwindigkeit von 11 mm/s bestens ausgestattet. Es verfügt auch über Hochgeschwindigkeits-Vision-basierte Ausrichtung und Auto-Fokussierung. Zur optimalen Kühlung des Substrats zur Stabilisierung des Ätzprozesses weist die Einheit außerdem einen Kühler auf. Die Ätzrate ist sehr stabil und bietet flexible Ätzbedingungen mit der Fähigkeit, hohe Leistungsergebnisse zu wiederholen. Die Maschine ist mit einer Vakuumpumpe ausgestattet und kann eine Niedervakuumumumgebung mit einem Kammerdruck von 5 mTorr erzeugen. Das Werkzeug verfügt außerdem über eine eingebaute Vorkammerentgasung, die unberührte Ätzbedingungen ermöglicht. Aspen II kann auch anisotrop geätzt werden, wobei die Ätzrate entlang der vertikalen Achse höher ist als die Ätzrate entlang der horizontalen Achse. MATTSON Aspen II verfügt über eine breite Palette von Ätzchemikalien wie Sauerstoff, Chlor, Schwefelhexafluorid und Fluorreste. Um reproduzierbare Ergebnisse zu gewährleisten, verfügt das Modell auch über eine Fernsteuerung über Schlüsselparameter wie elektrische Leistung, Temperatur und Ionenquelle. Darüber hinaus kann die Anlage problemlos in bestehende Halbleiterprozesse integriert werden. Aspen II ist eine ausgezeichnete Wahl für Hochleistungs-Hochdurchsatzätzen. Seine robuste Konstruktion und Präzision machen es zu einer perfekten Wahl für viele verschiedene Ätzanwendungen.
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