Gebraucht MATTSON Paradigm SI #9241278 zu verkaufen

MATTSON Paradigm SI ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um effiziente, präzise und prozessgesteuerte Ätz- und/oder Aschelösungen für die Materialforschung bereitzustellen. Es ist eine hocheffiziente, roboterbasierte Chargenverarbeitungsanlage, die ein innovatives Regelungssystem zum selektiven Ätzen oder Waschen von Wafern aus ein- oder mehrlagigen Materialien verwendet. Mit fortschrittlichen Mehrkammer-Prozessfähigkeiten bietet Paradigm SI eine hervorragende zeitliche und räumliche Steuerung der Prozessparameter einschließlich Gasströmungen, Temperaturen und Plasmaleistung. Die Hauptkammer verfügt über eine integrierte HF-Top-Ladequelle mit unabhängigen und isolierten Stromversorgungen für jede Quelle. Jedes Top-Loader-Modul enthält eine fokussierte, geschlossene, kollimierte Extraktionseinheit, die das Plasma gleichmäßig über den Wafer innerhalb der Bearbeitungskammer verteilt. Die Kammer enthält außerdem eine vereinfachte Hub-/Kassettenmaschine zum einfachen Be-/Entladen von Wafern. Neben dem Toplader verfügt MATTSON Paradigm SI auch über einen Lade-/Entlade-Hubmechanismus, um eine präzise Gaszufuhr und eine schnelle Platzierung von Wafern zu ermöglichen. Dieses Top-Ladewerkzeug ermöglicht die Einstellung des Kammerdrucks bei Bedarf während der Bearbeitung, wodurch die Gefahr einer Kammerverschmutzung minimiert und die Totalkontrolle des Waferätz-/Aschevorgangs aufrechterhalten wird. Die Kammer enthält auch eine dynamische thermische Steuerung, so dass die Wafertemperaturen für alle Bedingungen innerhalb der Kammer genau eingestellt werden können, einschließlich Überdruck. Dies gewährleistet einen konsistenten, effizienten Ätz-/Ascheprozess und minimiert den Zeitaufwand für die Verwaltung der Exposition gegenüber erhöhten Temperaturen. Neben den erweiterten Mehrkammer-Prozessfunktionen bietet Paradigm SI auch mehrere zusätzliche Ätz- und Aschefunktionen, einschließlich der Möglichkeit, die Verarbeitung von Einzel- oder Mehrfachwafern einfach auszuwählen sowie die mehrstufige Verarbeitung. Es bietet auch mehrere Verbrauchsmaterialien mit hoher Kapazität, einschließlich verschiedener verbrauchbarer Wafertypen, die speziell entwickelt wurden, um der Prozesstemperatur und der HF-Umgebung zu widerstehen. Zur zusätzlichen Steuerung verfügt das Asset auch über eine Vielzahl von Wafer-Überwachungsprotokollen, die es Anwendern ermöglichen, Waferergebnisse in Echtzeit zu beobachten, sowie Schlüsselparameter der Ätz- und Ascheprozesse wie Druck, Durchfluss, Leistung und Temperatur automatisch zu überwachen und zu steuern. Diese fortschrittliche Prozessüberwachungsfunktion macht MATTSON Paradigm SI zu einem äußerst zuverlässigen und effizienten Modell, das es Anwendern ermöglicht, schnell und effizient hochwertige geätzte/ashte Materialien zu erstellen.