Gebraucht MATTSON Paradigm #293809621 zu verkaufen

MATTSON Paradigm ist eine Ätz-/Ascher-Technologie, die optische Lithographie verwendet, um Muster oder Ascher auf einem Substrat zu ätzen. Diese Technologie nutzt einen Partikelstrahl, der auf eine Substratoberfläche gerichtet ist, um ein Muster aus einzelnen Pixelstellen zu ätzen oder zu aschen. Mit diesem Verfahren werden kleinere, kompliziertere Merkmale auf dem Substrat erzeugt als mit herkömmlicher Photolithographie. Der Prozess beginnt damit, dass eine Maske erzeugt wird, die das Muster enthält, das auf das Substrat geätzt oder axt werden muss. Diese Maske wird dann mit einer hochenergetischen Teilchenquelle wie einem Elektronenstrahl oder einem Ionenstrahl auf ein Substrat projiziert. Der Strahl bestrahlt jedes Pixel der Maske, wodurch das Substrat in den Bereichen, die den Pixeln der Maske entsprechen, geätzt oder axt wird. Im Laufe des Bestrahlungsprozesses wird das Material des Substrats entfernt, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Der Hauptvorteil von Paradigm ist, dass es das Ätzen oder Blenden von deutlich kleineren Merkmalen ermöglicht, als es mit herkömmlicher Photolithographie möglich ist. Denn die Merkmalsgröße dieses Verfahrens ist wesentlich kleiner als die Wellenlänge des zum Ätzen oder Aschen verwendeten Teilchenstrahls. Zusätzlich können die zum Ätzen oder Aschen verwendeten Strahlen fein abgestimmt werden, um Merkmale zu erreichen, die über typische lithographische Auflösungen hinausgehen. Diese Technologie bietet auch schnellere Ätz- oder Aschezeiten als die Photolithographie und ermöglicht auch komplexere Musterformen als typischerweise mit herkömmlicher Lithographie erreichbar. Außerdem können auf beiden Seiten des Substrats gleichzeitig komplexe Muster erhalten werden, so daß ein zweiseitiges Ätzen oder Aschen möglich ist. In Bezug auf Einschränkungen ist MATTSON Paradigm nicht für hergestellte Schaltungen oder Geräte mit integrierten Schaltungen geeignet. Ferner ist es aufgrund der Dicke der Ätzmaske nicht in der Lage, feinkörnige Merkmale zu ätzen oder zu aschen, was die Schwierigkeit beim Ätzen feiner Muster erhöht. Insgesamt ist Paradigm eine leistungsstarke Ätz- oder Aschetechnologie, die das Ätzen oder Aschen komplizierter Muster bei hohen Auflösungen ermöglicht und gleichzeitig schnellere Zykluszeiten erzielt. Die Technik ist jedoch auf einzelne Maskenlayouts beschränkt und nicht für integrierte Schaltungen geeignet, sowie in Ätz- oder Aschemustern beschränkt.